[发明专利]在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置

权利要求书

1.一种通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)来在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法，包括以下步骤：

a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020)；

b)将至少一个测试参数用于所述光刻光束(060)并确定所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用以及由此引起的所述光刻光束(060)或要生成的目标结构(030)中的至少一者的变化；

c)以这样的方式确定用于所述光刻光束(060)的至少一个校正参数，即减少由所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)或要生成的目标结构(030)中的至少一者的变化；以及

d)通过使用至少一个用于所述光刻光束(060)的校正参数并借助于所述至少一个光刻光束(060)曝光所述光刻胶(100)而在所述初始结构(010)上生成所需的目标结构(030)。

2.如权利要求1所述的方法，其中，方法步骤b)和c)以这样的方式迭代地执行，即由于所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用导致的、要生成的目标结构(030)的变化因此逐渐减少。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，使用来自所述非二维初始结构(010)的模型的已知数据或者使用配置用于确定所述表面的构形(020)的测量方法或相机来检测所述非二维初始结构(010)的表面的构形(020)。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤b)期间，借助于检测发光辐射(940)来确定所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用以及确定由此引起的、以测试参数设置的光刻光束(060)的变化，其中所述发光辐射(940)由以所述测试参数设置的光刻光束(060)产生。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述发光辐射(940)的功率与所述光刻胶(100)中的所述光刻光束(060)的焦点(065)处的强度非线性相关。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中，用于所述光刻光束(060)的所述至少一个校正参数包括对于所述光刻光束(060)的至少一个区域(070，071)的以下之中至少一者的调整：

-光功率，

-至少一个波长，

-写入速度，

-横截面，

-振幅特性，

-相位特性，或

-位置。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中，用于所述光刻光束(060)的所述至少一个校正参数包括对于由所述光刻光束(060)穿过的光束整形单元(110)的调整，由此执行所述光刻光束(060)的振幅或相位分布中的至少一者的调整。

8.如权利要求1或2所述的方法，其中，以这样的方式改变至少两个校正参数：对于至少一个第一校正参数，执行对于光刻胶的每个要曝光的体积单元(040)的单独调整，而对于第二校正参数，对于所选组内的多个体积单元(040)保持相同的值。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述非二维初始结构(010)具有边缘(052)，所述边缘与所述光刻光束(060)相互作用并且所述边缘的影响通过随着所述光刻光束(060)接近所述边缘(052)而增加所述光刻光束(060)的光功率来至少部分地补偿。

10.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述光刻胶(100)选自液体，所述液体同时用作光刻透镜的浸没介质。