[发明专利]感光化或感放射线性树脂组合物及其膜、图案形成方法、电子器件制造方法、化合物及树脂

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂(C)，该树脂(C)具有以下述通式(1)所表示的重复单元；

上述通式(1)中，Z表示卤素原子、以R₁₁OCH₂－所表示的基团或以R₁₂OC(＝O)CH₂－所表示的基团；R₁₁及R₁₂分别独立地表示一价取代基；X表示氧原子或硫原子；L表示(n+1)价的连结基团；R为以下述通式(A)所表示的基团；n表示正整数；当n为2以上时，多个R彼此相同或不同，

-Y-EWG (A)

上述通式(A)中，Y表示通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团，EWG表示以下述式(EW)表示的吸电子基团，

上述式(EW)中，*表示与通式(A)中的基团Y直接连结的键合键，

n_ew为以－C(R_ew1)(R_ew2)－所表示的连结基团的重复数，表示0或1的整数，当n_ew为0时表示单键，表示直接键合有Y_ew1，

Y_ew1为卤素原子、氰基、硝基、以－C(R_f1)(R_f2)－R_f3所表示的卤代烷基、以－C(R_f1)(R_f2)－R_f3所表示的卤代环烷基、卤代芳基、羰基、磺酰基、亚磺酰基或它们的组合，其中，Y_ew1为卤素原子、氰基或硝基时，n_ew为1，R_f1表示卤素原子、全卤代烷基、全卤代环烷基或全卤代芳基，R_f2、R_f3分别独立地表示氢原子、卤素原子、任选被卤素原子取代的烷基、任选被卤素原子取代的环烷基或任选被卤素原子取代的烷氧基，R_f2与R_f3任选地连结而形成环，

R_ew1、R_ew2分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基或芳基，

R_ew1、R_ew2及Y_ew1中的至少2个任选地相互连结而形成环。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述通式(1)中，L表示链状脂肪族基或芳香族基。

3.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

以所述通式(1)所表示的重复单元为以下述通式(2)或(3)所表示的重复单元；

上述通式(2)中，R₂表示以式(EW)表示的吸电子基团；L₂表示二价连结基团；X₂表示氧原子或硫原子；Z₂表示卤素原子；

上述通式(3)中，R₃表示以式(EW)表示的吸电子基团；L₃表示二价连结基团；X₃表示氧原子或硫原子；Z₃表示卤素原子。

4.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

以所述通式(1)所表示的重复单元为以下述通式(4)所表示的重复单元；

上述通式(4)中，R₄表示以式(EW)表示的吸电子基团；R₅表示氢原子、烷基或芳基；L₄表示二价连结基团；X₄表示氧原子或硫原子；m表示0或1。