[发明专利]将材料从第一微加工装置转移到第二微加工装置的方法、和用于其的试剂盒有效
| 申请号: | 201780040319.9 | 申请日: | 2017-06-27 |
| 公开(公告)号: | CN110049817B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
| 发明(设计)人: | A·哈洛克;M·沙 | 申请(专利权)人: | 通用自动化实验技术公司 |
| 主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;B03C1/005;B03C1/02;B03C1/04;B03C1/32;G01N33/543 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平;王月 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 材料 第一 加工 装置 转移 第二 方法 用于 试剂盒 | ||
1.将材料从包括上表面且包含第一微孔阵列的第一微加工装置转移到包括上表面且包含第二微孔阵列的第二微加工装置的方法,该方法包括:
将至少一个磁珠加载到第一微孔阵列的至少一个微孔中;
孵育第一微加工装置以在第一微孔阵列的至少一个微孔中培养多个细胞;
相对于第一微加工装置放置第二微加工装置,使得第一微加工装置的第一微孔阵列的至少一个微孔与第二微加工装置的第二微孔阵列的至少一个微孔对齐,其中相对于第一微加工装置放置第二微加工装置包括将第二微加工装置的上表面放置于第一微加工装置的上表面的对侧;和
施加磁场以将第一微孔阵列的至少一个微孔中包含的至少一个磁珠移动到第二微孔阵列的至少一个微孔中,其中来自第一微孔阵列的至少一个微孔中的多个细胞的至少一个细胞被转移到第二微孔阵列的至少一个微孔中。
2.权利要求1所述的方法,其中施加磁场包括使用永久磁铁。
3.权利要求1所述的方法,其中施加磁场包括使用电磁铁。
4.权利要求1所述的方法,进一步包括:
在孵育第一微加工装置之前,制备第一微加工装置使得第一微孔阵列的至少一个微孔包括至少一个细胞和至少一个磁珠,其中孵育第一微加工装置包括在第一微加工装置的至少一个微孔中从至少一个细胞培养多个细胞。
5.权利要求4所述的方法,其中制备第一微加工装置包括:
将包含溶剂和至少一个磁珠的磁珠溶液加载到至少一个微孔中;和
将至少一个细胞加载到所述至少一个微孔中。
6.权利要求5所述的方法,进一步包括:
向第一微加工装置施加磁铁使得至少一个磁珠被拉到至少一个微孔内,和
允许溶剂蒸发。
7.权利要求4所述的方法,其中制备第一微加工装置包括:
在至少一个微孔中加载包含至少一个磁珠和至少一个细胞的样品溶液。
8.权利要求4所述的方法,其中制备第一微加工装置包括:
施加膜以密封至少一个微孔。
9.权利要求1所述的方法,其中相对于第一微加工装置放置第二微加工装置包括将第二微加工装置的上表面放置于第一微加工装置的上表面的对侧并远离第一微加工装置的上表面。
10.权利要求1所述的方法,其中相对于第一微加工装置放置第二微加工装置包括将第二微加工装置的上表面放置于第一微加工装置的上表面的对侧并与第一微加工装置的上表面接触。
11.权利要求1所述的方法,进一步包括:
在施加磁场之前,在第一微加工装置的第一微孔阵列的至少一个微孔上施加液体层。
12.权利要求11所述的方法,其中所述液体层是油层。
13.权利要求11所述的方法,其中所述液体层是水性层。
14.将材料从包括上表面且包含第一微孔阵列的第一微加工装置转移到包括上表面且包含第二微孔阵列的第二微加工装置的方法,该方法包括:
制备第一微加工装置,使得第一微孔阵列的至少一个微孔包含目标材料和至少一个磁珠;
相对于第一微加工装置放置第二微加工装置,使得第一微加工装置的第一微孔阵列的至少一个微孔与第二微加工装置的第二微孔阵列的至少一个微孔对齐,其中相对于第一微加工装置放置第二微加工装置包括将第二微加工装置的上表面放置于第一微加工装置的上表面的对侧;和
施加磁场以将第一微孔阵列的至少一个微孔中包含的至少一个磁珠移动到第二微孔阵列的至少一个微孔中,其中第一微孔阵列的至少一个微孔中的至少一部分目标材料被转移到第二微孔阵列的至少一个微孔中。
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