[发明专利]红外线屏蔽片、红外线屏蔽夹层玻璃用中间膜以及红外线屏蔽夹层玻璃及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201780036806.8 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN109313297A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 原幸广;有福达治;海老原颂子;野原彰浩 申请(专利权)人: 日本化药株式会社
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;B32B7/02;B32B27/20;B60J1/00;G02B5/22
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 红外线屏蔽 波长 低折射率树脂 折射率 高折射率树脂 夹层玻璃 红外线吸收色素 可见光透射率 电波透过性 可见光区域 新型红外线 交替层叠 制造成本 表色系 层叠膜 屏蔽片 中间膜 色相 减去 申请 制造
【权利要求书】:

1.一种红外线屏蔽片,其特征在于,具备:

层叠膜,其由含有微粒的高折射率树脂层与含有微粒的低折射率树脂层交替层叠而成;以及

红外线吸收色素层,其含有可见光透射率为70%以上、L*a*b*表色系中b*值为10以下的红外线吸收色素,

所述低折射率树脂层的至少一层的550nm波长下的折射率减去780nm~2500nm中的任意波长下的折射率的值为0.1以上,在550nm以上且所述任意波长以下的任意波长下,所述低折射率树脂层显示出比所述高折射率树脂层低的折射率。

2.根据权利要求1所述的红外线屏蔽片,其中,

所述高折射率树脂层的550nm波长下的折射率减去780nm~1500nm中的任意波长下的折射率的值为0.1以下,所述低折射率树脂层的550nm波长下的折射率减去780nm~1500nm中的任意波长下的折射率的值为0.1以上。

3.根据权利要求1或2所述的红外线屏蔽片,其中,

在780nm~2500nm中的任意波长下,所述低折射率树脂层显示出比所述高折射率树脂层低的折射率,所述高折射率树脂层的至少一层和/或所述低折射率树脂层的至少一层的、780nm~2500nm中的任意波长下的光学厚度的QWOT系数为1.5以上。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

所述高折射率树脂层以及所述低折射率树脂层各自的表面电阻为1kΩ/□以上,所述高折射率树脂层以及所述低折射率树脂层的总层数为三层以上,所述高折射率树脂层以及所述低折射率树脂层各自的780nm~1500nm中的任意波长下的光学厚度为195nm~375nm。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

所述高折射率树脂层以及所述低折射率树脂层各自的表面电阻为1kΩ/□以上,所述高折射率树脂层以及所述低折射率树脂层的总层数为四层以上。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

可见光透射率为50%以上,雾度为8%以下。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

所述高折射率树脂层的至少一层含有选自由氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化钽、氧化钨、氧化铌、氧化铈、氧化铅、氧化锌、金刚石、硼化物、以及氮化物构成的组中的至少一种微粒。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

所述低折射率树脂层的至少一层含有可掺杂第三成分或可具有氧缺陷的、选自由氧化锡、氧化铟、氧化锌、以及氧化钨构成的组中的至少一种微粒。

9.根据权利要求8所述的红外线屏蔽片,其中,

所述低折射率树脂层的至少一层含有选自由掺锑氧化锡、掺锡氧化铟、掺镓氧化锌、缺氧氧化钨、以及掺铯氧化钨构成的组中的至少一种微粒。

10.根据权利要求8或9所述的红外线屏蔽片,其中,

所述低折射率树脂层的至少一层进一步含有二氧化硅微粒。

11.根据权利要求10所述的红外线屏蔽片,其中,

所述二氧化硅微粒为中空二氧化硅微粒。

12.根据权利要求8~10中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

所述低折射率树脂层的至少一层含有可掺杂第三成分或可具有氧缺陷的、选自由氧化锡、氧化铟、氧化锌、以及氧化钨构成的组中的至少一种非中空微粒,可与所述层相同或不同的低折射率树脂层的至少一层含有中空微粒。

13.根据权利要求1~12中任一项所述的红外线屏蔽片,其中,

相对于所述高折射率树脂层整体,所述高折射率树脂层所含有的微粒的含有率为95重量%以下。

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