[发明专利]用于沉积材料在连续基板上的方法及设备

权利要求书

1.一种用于在多个处理腔室中沉积陶瓷或金属材料于连续基板上的设备，包括：

第一腔室，所述第一腔室具有第一容积；

第二腔室，所述第二腔室具有第二容积，所述第二容积流体耦合至所述第一容积；

多个处理腔室，每一处理腔室具有界定所述第一腔室及所述第二腔室之间处理路径的处理容积，其中每一处理腔室的所述处理容积彼此流体耦合、耦接至所述第一容积及耦接至所述第二容积，其中所述第一腔室、所述第二腔室、及所述多个处理腔室经配置以处理自所述第一腔室延伸通过所述多个处理腔室而至所述第二腔室的连续基板，其中每一处理腔室由第四腔室与相邻处理腔室分隔，所述第四腔室具有第四容积，所述第四容积流体耦合至每一相邻处理腔室的所述处理容积，并且其中所述第四腔室包含多个致动辊；

可移动第一托架，所述可移动第一托架位于所述第一腔室的所述第一容积内；

第一机械手组件，所述第一机械手组件可移动地设置于所述第一容积内；

传输组件，所述传输组件可移动地设置通过所述多个处理腔室；

第二机械手组件，所述第二机械手组件可移动地设置于所述第二容积内；及

可移动第二托架，所述可移动第二托架位于所述第二腔室的所述第二容积内，其中操作所述第一机械手组件、所述传输组件、及所述第二机械手组件以在第一卷筒上传输连续基板的初始部分通过所述多个处理腔室而至设置于所述第二托架上的可旋转卷筒，所述第一卷筒可旋转地设置于所述第一托架上。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述连续基板为陶瓷纤维丝束，且其中所述多个处理腔室中的至少一个为化学气相沉积或化学气相渗透腔室。

3.如权利要求1至2任一项所述的设备，进一步包括第三腔室，所述第三腔室耦接至所述第一腔室且具有第三容积，所述第三容积流体耦合至所述第一腔室，其中可选择性地将所述第一腔室与所述第三腔室隔断。

4.如权利要求1至2任一项所述的设备，其中所述多个处理腔室的每一处理容积线性置于所述第一腔室及所述第二腔室之间。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述多个处理腔室堆叠于所述第一腔室顶上，且所述第二腔室堆叠于所述多个处理腔室顶上。

6.如权利要求1至2任一项所述的设备，其中每一处理容积放置成彼此平行。

7.如权利要求6所述的设备，其中自所述第一腔室通过所述多个处理腔室至所述第二腔室的所述处理路径为蛇形，或其中自所述第一腔室通过所述多个处理腔室至所述第二腔室的所述处理路径为非线性。

8.如权利要求1至2任一项所述的设备，其中每一处理容积放置成彼此成一角度。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述角度及所述角度改变的方向在所述多个处理腔室的每一相继处理容积之间为相同的。