[发明专利]具有可调整磁致伸缩的磁阻元件以及包括磁阻元件的磁性设备在审
| 申请号: | 201780015916.6 | 申请日: | 2017-03-06 |
| 公开(公告)号: | CN108701757A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
| 发明(设计)人: | S.邦迪尔拉 | 申请(专利权)人: | 克罗科斯科技公司 |
| 主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01F10/26;H01L43/12 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙鹏;闫小龙 |
| 地址: | 法国格*** | 国省代码: | 法国;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁致伸缩 磁阻元件 感测层 存储 铁磁层 感测 磁性设备 存储层 可调整 调整补偿 阻挡层 | ||
1.一种磁阻元件(1),包括:
具有第一存储磁致伸缩的存储层(21);
具有第一感测磁致伸缩的感测层(23);
在存储和感测层(21,23)之间并且与存储和感测层(21,23)接触的阻挡层(22);
其特征在于磁阻元件(1)还包括
具有与第一存储磁致伸缩和/或感测磁致伸缩不同的第二磁致伸缩的补偿铁磁层(25),并且其中补偿铁磁层(25)的厚度使得补偿铁磁层(25)的第二磁致伸缩补偿第一存储磁致伸缩和/或第一感测磁致伸缩,使得存储层(21)和/或感测层(23)的净磁致伸缩在-10ppm et +10 ppm之间或者比-10 ppm更为负,并且其中存储层(21)和/或感测层(23)在补偿铁磁层(25)和阻挡层(22)之间。
2.根据权利要求1所述的磁阻元件,其中补偿铁磁层(25)包括包含小于25%wt的Ta、Ti、Hf、Cr、Sc、Cu、Pt、Pd、Ag、Mo、Zr、W、Al、Si、Mg或其组合的Ni或Co合金,或者包括纯Ni或纯Co。
3.根据权利要求2所述的磁阻元件,其中补偿铁磁层(25)具有0.5nm和10nm之间的厚度。
4.根据权利要求1到3中任一项所述的磁阻元件,
还包括在补偿铁磁层(25)与存储层(21)和感测层(23)中的至少一个之间的过渡层(26)。
5.根据权利要求4所述的磁阻元件,其中过渡层(26)包括Ti、Hf、Ta、Nb、Cr或其组合,和/或具有包括在0.1nm和1nm之间的厚度。
6.根据权利要求1到5中任一项所述的磁阻元件,
还包括铁磁耦合层(27),所述铁磁耦合层(27)包括基于Fe或Co的合金并且适于提供大于0.05 erg/cm2的交换耦合。
7.根据权利要求6所述的磁阻元件,
还包括交换耦合存储层(21)的存储反铁磁层(24),并且
其中铁磁耦合层(27)包括在存储反铁磁层(24)和补偿铁磁层(25)之间。
8.根据权利要求6到7中任一项所述的磁阻元件,
包括在补偿铁磁层(25)和铁磁耦合层(27)之间的另一过渡层(26)。
9.根据权利要求1到8中任一项所述的磁阻元件,
其中存储层(21)包括SAF结构,所述SAF结构包括与阻挡层(22)接触的第一铁磁存储层(211)、第二铁磁存储层(212)以及在第一和第二铁磁存储层(211,212)之间的SAF存储耦合层(213);以及
其中补偿铁磁层(25)包括在SAF耦合层(213)和第一铁磁存储层(211)之间以及SAF耦合层(213)和第二铁磁存储层(212)之间。
10.根据权利要求1到9中任一项所述的磁阻元件,
其中感测层(23)包括SAF结构,所述SAF结构包括与阻挡层(22)接触的第一铁磁感测层(231)、第二铁磁感测层(232)以及在第一和第二铁磁感测层(231,232)之间的SAF耦合层(233);并且
其中补偿铁磁层(25)包括在SAF耦合层(233)和第一铁磁感测层(231)之间以及SAF耦合层(233)和第二铁磁感测层(232)之间。
11.根据权利要求9或10以及权利要求4或5所述的磁阻元件,
其中过渡层(26)包括在补偿铁磁层(25)和第一铁磁存储层(211)之间和/或补偿铁磁层(25)和第二铁磁存储层(212)之间。
12.根据权利要求10或11以及权利要求4或5所述的磁阻元件,
其中过渡层(26)包括在补偿铁磁层(25)和第一铁磁感测层(231)之间和/或补偿铁磁层(25)和第二铁磁感测层(232)之间。
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