[发明专利]聚合物、组合物、牺牲层的形成以及用于具有其的半导体装置的方法

权利要求书

1.一种聚合物，包含由下式(1)表示的单元1，其中该聚合物的重均分子量(Mw)满足下式(2)，

500Da≤Mw≤10,000Da式(2)，

X是由下式(3)、(4)或(5)表示的结构,

C₁、C₂、C₃、C₄、C₅、C₆、C₇、C₈、C₉、C₁₀和C₁₁为碳，C₅和C₄在*位置键合以形成芳烃环，

C₁和C₂、C₂和C₃、C₃和C₄、C₅和C₆、C₆和C₇、C₈和C₉、C₉和C₁₀、C₁₀或C₁₁任选地具有另外一个芳烃环或者另外一个或多个脂肪烃环，任选地，那些环可以被连接，任选地，那些芳烃环或脂肪烃环可以独立地被一个或多个取代基取代，或未被取代，

L是碳原子数为6～18的芳烃环、-O-或酮，

n是选自1、2、3、4或5的整数，

多个L可以彼此相同或不同，

Y是碳原子数为6～18的芳烃环、碳原子数为1～5的烷基或氢，以及

任选地，Y、L、C₁、C₂、C₃、C₄、C₅、C₆、C₇、C₈、C₉、C₁₀和C₁₁可以独立地被一个或多个取代基取代，或未被取代。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中所述式(1)由式(6)、(7)或(8)表示，以及

Y、L、n、C₁、C₂、C₃、C₄、C₅、C₆、C₇、C₈、C₉、C₁₀和C₁₁的定义分别与权利要求1相同。

3.根据权利要求1或2中至少一项所述的聚合物，其中所述式(1)由选自式(6-1)至(8-9)中的至少一个表示，Y、L或n的定义分别与权利要求1相同。

4.根据权利要求1～3中至少一项所述的聚合物，其中L为苯基、萘基、菲基、蒽基、芘基、三亚苯基、荧蒽基、-O-或-C(＝O)-，以及

Y为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、蒽基、芘基、三亚苯基、荧蒽基、甲基、乙基、异丙基、叔丁基或氢。

5.一种组合物，包含根据权利要求1～3中至少一项所述的聚合物、以及溶剂。

6.根据权利要求5所述的组合物，其中还包含交联剂、产酸剂或它们的混合物。

7.根据权利要求5或6中至少一项所述的组合物，其中所述组合物用于牺牲层。

8.一种牺牲层，包含根据权利要求1～3中至少一项所述的聚合物。

9.一种消除权利要求8的牺牲层的方法，包括从溶解、等离子体处理、高能辐射照射或热分解中选出的至少一个步骤。