[实用新型]一种LED芯片有效

专利信息
申请号: 201721790897.8 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN207818599U 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 尹晓雪 申请(专利权)人: 西安智盛锐芯半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/08 分类号: H01L33/08;H01L33/44
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 黄晶晶
地址: 710075 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 外延层 灯芯 红光 绿光 电极 蓝光 衬底层 荧光粉胶层 增透膜 本实用新型 发光效果 取光效率 直接混合 三色光 上表面 下电极 白光 反射 生长 吸收
【权利要求书】:

1.一种LED芯片,其特征在于,包括,

衬底层(11);

灯芯层,所述灯芯层包括生长在所述衬底层(11)上的蓝光外延层,所述蓝光外延层中分别设置相邻的红光灯芯槽和绿光灯芯槽,所述红光灯芯槽内设置红光外延层,所述绿光灯芯槽内设置绿光外延层;

所述蓝光外延层、红光外延层和绿光外延层的上表面设置增透膜(1001);

电极,所述电极包括上电极(51)和下电极(52),所述上电极(51)设置在所述增透膜(1001)上。

2.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述蓝光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(101)、GaN稳定层(102)、掺Si的n型GaN层(103)、由InGaN/GaN多量子阱结构形成的有源层(104)、p型AlGaN阻挡层(105)、p型GaN接触层(106)。

3.根据权利要求2所述的LED芯片,其特征在于,所述红光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(401)、n型GaAs缓冲层(402)、n型GaAs稳定层(403)、由GalnP/A1GaInP多量子阱结构形成的有源层(404)、p型A1GaInP阻挡层(405)和p型GaAs接触层(406);

所述绿光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(201)、n型GaAs缓冲层(202)、n型GaAs稳定层(203)、由GalnP/A1GaInP多量子阱结构形成的有源层(204)、p型A1GaInP阻挡层(205)和p型GaAs接触层(206)。

4.根据权利要求3所述的LED芯片,其特征在于,所述红光灯芯槽和所述绿光灯芯槽相连接,且所述红光灯芯槽和所述绿光灯芯槽分别以所述蓝光外延层的所述GaN缓冲层(101)为槽底。

5.根据权利要求4所述的LED芯片,其特征在于,所述上电极(51)分别设置在所述蓝光外延层、所述红光外延层和所述绿光外延层所在区域对应的增透膜(1001)的上表面;

所述下电极(52)设置于所述蓝光外延层的所述GaN稳定层(102)上。

6.根据权利要求5所述的LED芯片,其特征在于,所述增透膜(1001)为TiO2材料制成,且所述增透膜(1001)的厚度为透射光波长的1/4。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安智盛锐芯半导体科技有限公司,未经西安智盛锐芯半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721790897.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top