[实用新型]一种LED芯片有效
| 申请号: | 201721790897.8 | 申请日: | 2017-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN207818599U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
| 发明(设计)人: | 尹晓雪 | 申请(专利权)人: | 西安智盛锐芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/08 | 分类号: | H01L33/08;H01L33/44 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 黄晶晶 |
| 地址: | 710075 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 外延层 灯芯 红光 绿光 电极 蓝光 衬底层 荧光粉胶层 增透膜 本实用新型 发光效果 取光效率 直接混合 三色光 上表面 下电极 白光 反射 生长 吸收 | ||
1.一种LED芯片,其特征在于,包括,
衬底层(11);
灯芯层,所述灯芯层包括生长在所述衬底层(11)上的蓝光外延层,所述蓝光外延层中分别设置相邻的红光灯芯槽和绿光灯芯槽,所述红光灯芯槽内设置红光外延层,所述绿光灯芯槽内设置绿光外延层;
所述蓝光外延层、红光外延层和绿光外延层的上表面设置增透膜(1001);
电极,所述电极包括上电极(51)和下电极(52),所述上电极(51)设置在所述增透膜(1001)上。
2.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述蓝光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(101)、GaN稳定层(102)、掺Si的n型GaN层(103)、由InGaN/GaN多量子阱结构形成的有源层(104)、p型AlGaN阻挡层(105)、p型GaN接触层(106)。
3.根据权利要求2所述的LED芯片,其特征在于,所述红光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(401)、n型GaAs缓冲层(402)、n型GaAs稳定层(403)、由GalnP/A1GaInP多量子阱结构形成的有源层(404)、p型A1GaInP阻挡层(405)和p型GaAs接触层(406);
所述绿光外延层自下向上依次包括:GaN缓冲层(201)、n型GaAs缓冲层(202)、n型GaAs稳定层(203)、由GalnP/A1GaInP多量子阱结构形成的有源层(204)、p型A1GaInP阻挡层(205)和p型GaAs接触层(206)。
4.根据权利要求3所述的LED芯片,其特征在于,所述红光灯芯槽和所述绿光灯芯槽相连接,且所述红光灯芯槽和所述绿光灯芯槽分别以所述蓝光外延层的所述GaN缓冲层(101)为槽底。
5.根据权利要求4所述的LED芯片,其特征在于,所述上电极(51)分别设置在所述蓝光外延层、所述红光外延层和所述绿光外延层所在区域对应的增透膜(1001)的上表面;
所述下电极(52)设置于所述蓝光外延层的所述GaN稳定层(102)上。
6.根据权利要求5所述的LED芯片,其特征在于,所述增透膜(1001)为TiO2材料制成,且所述增透膜(1001)的厚度为透射光波长的1/4。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安智盛锐芯半导体科技有限公司,未经西安智盛锐芯半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721790897.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种超长柔性LED光源涂胶装置
- 下一篇:一种可调色温的LED封装器件





