[实用新型]一种垂直结构的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201721719211.6 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN207441701U 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 何苗;王成民;赵韦人 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01L25/075 分类号: H01L25/075;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/20;H01L33/36
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 510006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 缓冲层 衬底 发光二极管 未掺杂GaN层 第一表面 多量子阱结构层 透明导电薄膜层 电子屏蔽层 垂直结构 通孔 贯穿 绝缘层 本实用新型 大功率照明 金属导电层 第二表面 反光层 暴露 预设 垂直
【权利要求书】:

1.一种垂直结构的发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括:

衬底;

设置在所述衬底上的外延层结构,所述外延层结构包括:在第一方向上依次设置的第一缓冲层、第二缓冲层、未掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱结构层、电子屏蔽层、p型GaN层以及透明导电薄膜层,其中,所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述外延层结构;

贯穿所述透明导电薄膜层、所述p型GaN层、所述电子屏蔽层、所述多量子阱结构层以及所述n型GaN层,直至暴露出所述未掺杂GaN层的多个第一凹槽,其中,所述第一凹槽的第一表面与所述衬底之间成预设角度,所述第一凹槽的第二表面与所述衬底垂直;

沿着所述第一表面贯穿所述未掺杂GaN层、所述第二缓冲层、所述第一缓冲层以及所述衬底的多个通孔,所述通孔与所述衬底之间成所述预设角度;

依次设置在所述第一表面以及所述通孔上的反光层、绝缘层以及第一金属导电层;

贯穿所述衬底、所述第一缓冲层、所述第二缓冲层以及所述未掺杂GaN层,直至暴露出所述n型GaN层的多个第二凹槽,其中,所述第二凹槽为正梯形结构。

2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述发光二极管还包括:

设置在所述衬底背离所述外延层一侧的基底,所述基底上设置有多个凸起,且所述凸起与所述第二凹槽相匹配。

3.根据权利要求2所述的发光二极管,其特征在于,所述发光二极管还包括:

设置在所述基底与所述衬底之间的第二金属导电层,且位于所述第二凹槽与所述通孔之间的第二金属导电层上设置有镂空区域。

4.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,所述发光二极管还包括:

设置在所述基底上的N电极银浆导电沟槽以及P电极银浆导电凹槽,其中,所述N电极银浆导电凹槽的一端与位于所述第二凹槽背离所述通孔的第二金属导电层连接,所述N电极银浆导电凹槽的另一端与N电极连接,所述P电极银浆导电凹槽的一端与位于所述镂空区域背离所述第二凹槽的第二金属导电层连接,所述P电极银浆导电凹槽的另一端与P电极连接。

5.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述衬底为纳米多孔硅衬底。

6.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述多量子阱结构层为InxGa1-xN多量子阱结构层或GaN多量子阱结构层,其中,0.5≤x≤0.55。

7.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述预设角度的范围为40°-50°,包括端点值。

8.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述第一缓冲层为AlN缓冲层。

9.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述第二缓冲层为AlGaN缓冲层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学,未经广东工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721719211.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top