[实用新型]蒸发源及蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201721643442.3 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN207525325U 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 赵子仪;张金中;黄俊杰;裴凤巍 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀 坩埚 调温部件 蒸发源 检测 本实用新型 蒸镀材料 蒸镀设备 容置腔 膜厚均一性 加热单元 实时监控 可控的 加热 盛放
【权利要求书】:

1.一种蒸发源,其特征在于,包括:

坩埚,所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔,且所述容置腔包括多个蒸镀区;

加热部件,用于加热所述坩埚内的蒸镀材料,设置于所述坩埚上;

检测部件,用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态,设置在所述坩埚上,所述蒸镀状态包括蒸镀速率;

调温部件,用于对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节,设置在所述坩埚上;

以及,控制单元,用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的所述蒸镀状态,控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节,所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。

2.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,

所述检测部件包括:

用于检测所述坩埚的各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料量的多个第一感应器,所述多个第一感应器设置在所述坩埚上,且每一所述蒸镀区对应设置至少一个所述第一感应器;

以及,第一处理器,用于根据所述第一感应器所检测到的各所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量以及各所述蒸镀区的蒸镀时间,获取各所述蒸镀区的蒸镀速率。

3.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,

所述第一感应器包括重量感应器,所述重量感应器设置在所述坩埚的底部、且对应于各所述蒸镀区设置,用于检测各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料的重量。

4.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,

所述调温部件包括:

至少一块反射板,所述反射板在所述蒸镀区对应位置时,能够提高所述反射板当前所对应的蒸镀区内的蒸镀温度;

以及,移动组件,用于移动所述反射板,所述移动组件包括沿多个所述蒸镀区的排列方向延伸的轨道,所述反射板可移动地设置在所述轨道上;

所述控制单元包括:

第二处理器,与所述移动组件和所述检测部件连接,用于当所述检测部件检测到第一预定蒸镀区的蒸镀速率在第一预定连续时间段内低于其他所述蒸镀区的蒸镀速率时,控制所述移动组件的工作状态,以将所述反射板移动至所述第一预定蒸镀区对应的位置,所述移动组件的工作状态包括移动所述反射板时的移动方向和移动速率。

5.根据权利要求4所述的蒸发源,其特征在于,

所述蒸发源为线性蒸发源,所述坩埚包括坩埚本体和设置在所述坩埚本体外的外罩,所述坩埚本体内具有所述容置腔,且所述容置腔内设置有多个栅状纵向分隔板,所述多个栅状纵向分隔板从所述坩埚本体的顶部向所述坩埚本体的底部延伸,以将所述坩埚本体的容置腔分隔为沿预定直线方向依次排列的多个所述蒸镀区,且在所述坩埚本体或所述外罩的顶部设置有多个喷嘴,相邻两个所述喷嘴之间对应地设置一个所述栅状纵向分隔板,在所述坩埚本体的容置腔的底部、各所述蒸镀区相贯通;所述轨道和所述反射板设置在所述坩埚本体的外部,所述轨道沿所述预定直线方向延伸。

6.根据权利要求4所述的蒸发源,其特征在于,

所述蒸发源为点状蒸发源,所述坩埚包括沿预定圆周方向依次排列的多个坩埚本体,每一所述坩埚本体形成一个所述蒸镀区,每一所述坩埚本体的顶部对应设置有一个喷嘴,所述轨道和所述反射板设置在所述坩埚本体外,且所述轨道沿所述预定圆周方向延伸。

7.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,

所述控制单元还包括:

第三处理器,与所述第一感应器和所述第一处理器连接,用于当所述第一感应器检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量小于预设材料量时,接收所述第一处理器所获取的所述蒸镀速率,并当所述蒸镀速率低于第一预设蒸镀速率时,将所述第一感应器所检测到的当前蒸镀材料量确定为最低材料剩余量。

8.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,

所述控制单元还包括:

第四处理器,与所述第一感应器和所述第一处理器连接,用于当所述第一感应器检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量大于或等于预设材料量时,接收所述第一处理器所获取的所述蒸镀速率,并当检测到第二预定蒸镀区的所述蒸镀速率在超过第二预定连续时间段低于第二预设蒸镀速率时,发送所述第二预定蒸镀区存在异常的报警信号。

9.一种蒸镀设备,其特征在于,包括如权利要求1至8任一项所述的蒸发源。

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