[实用新型]基于SIW结构的毫米波宽带Vivaldi阵列天线有效

专利信息
申请号: 201721563108.7 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN207490097U 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 陈平;朱晓维;刘鹏飞;李晨枫 申请(专利权)人: 南京濠暻通讯科技有限公司
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q21/00
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 邓娜
地址: 211106 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 辐射单元 本实用新型 毫米波宽带 八功分器 阵列天线 转换结构 天线 表面电流路径 天线技术领域 微带渐变线 带宽特性 低频方向 电容加载 金属通孔 有效长度 阻抗带宽 传输段 金属层 微带线 微带 向内 感性 延伸 拓展
【说明书】:

实用新型涉及天线技术领域,尤其涉及一种基于SIW结构的毫米波宽带Vivaldi阵列天线,包括微带SIW转换结构、基于SIW的一分八功分器和八个Vivaldi天线单元,SIW转换结构包括微带线、微带渐变线和SIW传输段,基于SIW的一分八功分器包括金属层和感性金属通孔,Vivaldi天线单元包括Vivaldi辐射单元、第一锤形槽和第二锤形槽。本实用新型的第一锤形槽和第二锤形槽使得Vivaldi天线单元上的表面电流路径弯曲,增加了辐射单元的有效长度,向低频方向拓展了天线的阻抗带宽;同时,锤形槽向内的延伸避免了对相邻辐射单元的电容加载产生影响,使得天线最终取得良好的带宽特性。

技术领域

本实用新型涉及天线技术领域,尤其涉及一种基于SIW结构的毫米波宽带Vivaldi阵列天线。

背景技术

随着第五代移动通信技术(5G)的研究进展,毫米波频段作为新的频谱资源已经得到越来越高的重视。Vivaldi天线由于宽带、高增益以及低交叉极化等优势在雷达、通信以及电子对抗等领域扮演着愈加重要的角色。随着平面集成电路的发展,低剖面、易集成、低成本的印刷Vivaldi天线阵列成为了当下的研究热点。将Vivaldi阵列天线应用于毫米波频段之中有着重要意义。

在毫米波频段中,传统的基于微带线结构的天线阵列,由于其馈电网络处于辐射状态,不但产生较大的传输损耗,也会产生不希望的辐射;而对于带状线结构的天线阵列,其传输线虽处于屏蔽状态,但馈电网络较为复杂,需要多层结构,加工成本比较高昂。除此之外,根据Vivaldi天线的辐射原理,Vivaldi天线要拓展其阻抗带宽,必须增加辐射单元的指数渐变长度以延长电流路径,这与天线的小型化需求产生了矛盾。

基片集成波导(SIW)是具有低插损、低辐射的新型导波结构,由介质基片上的金属化通孔阵列制成,制成的毫米波部件具有高Q值,高功率容量和易集成的优点。

实用新型内容

本实用新型提供了一种可以拓展天线带宽和提高天线增益的基于SIW结构的毫米波宽带Vivaldi阵列天线。

为了实现本实用新型的目的,所采用的技术方案是:基于SIW结构的毫米波宽带Vivaldi阵列天线,包括微带SIW转换结构、基于SIW的一分八功分器和八个Vivaldi天线单元,微带SIW转换结构将馈入的电磁波转换为SIW传输段的电磁波,基于SIW的一分八功分器将SIW传输段的电磁波均匀传输至八个Vivaldi天线单元,SIW转换结构包括微带线、微带渐变线和SIW传输段,微带线和SIW传输段通过微带渐变线连接,基于SIW的一分八功分器包括金属层和感性金属通孔,Vivaldi天线单元包括Vivaldi辐射单元、第一锤形槽和第二锤形槽,第一锤形槽和第二锤形槽均开设在Vivaldi辐射单元上。

作为本实用新型的优化方案,Vivaldi天线单元还包括第一重叠区和第二重叠区,相邻Vivaldi辐射单元正面金属层和背面金属层重叠的区域为第一重叠区,单个Vivaldi辐射单元金属层重叠的区域为第二重叠区。

作为本实用新型的优化方案,微带SIW转换结构还包括金属地,金属地位于介质板的背面,微带线和微带渐变线位于介质板的正面,SIW传输段包括SIW金属层和SIW金属通孔,SIW金属层分别覆盖在介质板的正面和背面,SIW金属通孔排布在SIW金属层的两侧。

作为本实用新型的优化方案,介质板的厚度为0.254mm。

本实用新型具有积极的效果:1)本实用新型可以覆盖38.4–45.6GHz频段,Vivaldi天线单元本身具有高增益的优势,本实用新型采用八个Vivaldi天线单元组成阵列更是进一步提高了天线的增益,同时减小了E面波束宽度;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京濠暻通讯科技有限公司,未经南京濠暻通讯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721563108.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top