[实用新型]一种镜面烘缸的生产抛光装置有效
| 申请号: | 201721396222.5 | 申请日: | 2017-10-19 |
| 公开(公告)号: | CN207272973U | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
| 发明(设计)人: | 刘志平 | 申请(专利权)人: | 溧阳市江南烘缸制造有限公司 |
| 主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B55/02;B24B41/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 213331 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 镜面烘缸 生产 抛光 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种抛光装置,尤其是涉及一种镜面烘缸的生产抛光装置。
背景技术
烘缸是用铸铁制成的两端有盖的空心圆筒,由缸体及其两端的缸盖组成,外径多为1000~3000mm,在运转过程中,内通蒸汽将输送的纸张烘干烫光。它的具体原理是:从蒸汽接头通入的饱和蒸汽在烘缸内部冷凝,释放出来的热量使得烘缸温度上升,从而将包覆在辊壳表面运行的纸页加热。热量在纸张和烘缸表面的接触中被传递到纸张中。蒸汽释放热量冷凝后产生大量冷凝水,这些冷凝水因为烘缸的旋转受离心力附着在烘缸内表面,在角速度较高的情况下形成水环,阻碍了热量向烘缸表面的传递,因此需要虹吸管将冷凝水及时排出。在车速较低时不会形成水环,但也会有冷凝水在烘缸内飞溅、积累。
目前烘缸表面抛光都采用千叶轮、烧结砂轮进行,最高粗糙度Ra≥0.1μm,达不到镜面要求的Ra≤0.012μm以下,设计一种镜面烘缸的抛光装置,可以打磨光洁度可达到Ra=0.006μm;传动抛光不能通过喷水来阻止抛光碎屑四处飞扬,影响生产环境,本装置可以通过喷水来阻止抛光碎屑四处飞扬,改善生产环境。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是在镜面烘缸应用的基础上,为烘缸表面的抛光提供一种辅助功能,设计一种镜面烘缸的生产抛光装置,从而解决上述问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
本实用新型一种镜面烘缸的生产抛光装置,包括烘缸支架、烘缸、横向导轨和纵向导轨,所述烘缸支架上端放置有烘缸,所述烘缸支架一侧设有纵向导轨,所述纵向导轨上端安装有横向导轨,所述横向导轨上端设有安装座,所述安装座上端设有电机安装座,所述电机安装座内部安装有调频电机,所述调频电机一侧安装有打磨装置,所述打磨装置包括打磨砂带、主动轮、从动轮、中间轮、磨轮座和磨轮,所述主动轮一侧安装有从动轮,所述从动轮一侧安装有中间轮,所述中间轮一侧设有磨轮,所述磨轮也位于主动轮的一侧,所述主动轮外周设有打磨砂带,所述打磨砂带也位于磨轮、中间轮和从动轮的外周,且所述打磨砂带依次连接主动轮、磨轮、中间轮和从动轮,所述磨轮一端设有磨轮座,所述磨轮位于磨轮座内部,所述磨轮座一端安装有顶轴,所述顶轴一端设有液压缸座,所述液压缸座内部安装有液压缸,所述液压缸座上端安装有滑块槽,所述滑块槽内部安装有滑块,所述滑块一端设有连杆,所述连杆一端设有偏心轮,所述偏心轮位于调频电机一侧,所述偏心轮和调频电机为轴连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述纵向导轨内部设有纵向导轨丝杠,所述纵向导轨丝杠一端安装有驱动电机,所述驱动电机和纵向导轨丝杠为轴连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述横向导轨一端安装有横向导轨丝杠,所述横向导轨丝杠和横向导轨通过螺栓固定连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述电机安装座上端设有喷水管,所述喷水管一端位于打磨砂带上侧。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述磨轮外周的打磨砂带位于烘缸一侧且紧密接触烘缸外表面。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述磨轮座和液压缸通过顶轴固定连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述滑块和偏心轮通过连杆铰接连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该种镜面烘缸的生产抛光装置,结构设计完整紧凑,通过喷水管的设置,一方面给烘缸表面降温,确保烘缸表面不过热,另一方面冲刷掉打磨的碎屑,通过喷水来阻止抛光碎屑四处飞扬,改善生产环境,保证打磨抛光的质量;打磨砂带在主动轮的驱动下,绕过磨轮,经过中间轮在从动轮上拉下新的砂带,最后把用废的绕在主动轮上,每分钟行走0.1m,从而使与烘缸表面紧密接触的打磨部位始终处于新的砂面部位,保证打磨抛光的质量和效率;开动调频电机,偏心轮作圆周运动,通过连杆带动滑块槽内的滑块作往复直线运动,从而使液压缸座作左右往复直线运动,使磨轮座和磨轮作左右往复直线运动,从而使烘缸表面在得到打磨砂带周向打磨抛光的同时在轴向也得到交错的打磨抛光,使烘缸表面被打磨抛光得更细、更均匀,实现镜面抛光的目的;横向导轨丝杠的径向移动,使本装置可以对直径不同的烘缸表面进行打磨抛光;横向导轨安装在纵向导轨上,通过由电机驱动的纵向导轨丝杠在纵向导轨上沿轴向可控制地移动,从而保证了本装置在对烘缸全表面打磨抛光时,轴向上的均匀性,通过以上精细化处理,本装置打磨光洁度可达到Ra=0.006μm,本实用新型结构简单且设计合理,更加人性化,适合推广使用。
附图说明
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