[实用新型]一种改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂

权利要求书

1.一种改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，包括连接段和支撑段，连接段包括两个相互平行的连接杆，支撑段包括两个对称设置且同圆心的弧形支撑杆，弧形支撑杆与连接杆一一对应，且弧形支撑杆的一端与对应的连接杆的一端连接；两个弧形支撑杆的内部各设置有若干朝向圆心的支架，所述支架均包括一体成型的承载段和限位段，承载段和限位段均为长方体型，且承载段和限位段的宽度相同，且两者的下端面齐平，左端面齐平，右端面齐平；限位段的自由端与弧形支撑杆连接，且限位段的上端面高于承载段的上端面；弧形支撑杆的内径大于晶圆的直径，承载段的自由端到圆心的距离小于晶圆的半径，承载段的连接端到圆心的距离大于晶圆的半径。

2.根据权利要求1所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，所述连接杆的长度为4-10mm。

3.根据权利要求1所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，所述弧形支撑杆的内径为153-159mm，圆心角为120-150°。

4.根据权利要求1所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，所述承载段的长度为2.5-3mm，承载段的厚度为3-5mm，限位段的长度为3-5mm，限位段的上端面比承载段的上端面高出0.8-1.3mm。

5.根据权利要求1所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，两个所述弧形支撑杆上均设置有2个支架。

6.根据权利要求5所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，每个弧形支撑杆上的两个支架之间的夹角为90°。

7.根据权利要求1所述的改善化合物半导体设备镀膜均匀性的新型传输臂，其特征在于，所述连接段和支撑段均采用陶瓷或铝合金制成。