[实用新型]一种用于金属废料处理的萃取箱

说明书

技术领域

本实用新型属于萃取设备技术领域，具体涉及一种用于金属废料处理的萃取箱。

背景技术

萃取，又称溶剂萃取或液液萃取，亦称抽提，是利用系统中组分在溶剂中有不同的溶解度来分离混合物的单元操作。即，是利用物质在两种互不相溶(或微溶)的溶剂中溶解度或分配系数的不同，使溶质物质从一种溶剂内转移到另外一种溶剂中的方法。广泛应用于化学、冶金、食品等工业，通用于石油炼制工业。另外将萃取后两种互不相溶的液体分开的操作，叫做分液。现有的萃取设备大多使用类似分液漏斗结构的设备进行萃取，在加入溶液以及萃取剂时要提前进行量取，使用较为不便，排放时需要人为控制开关控制方便，操作人员需要一致守候在一旁。

实用新型内容

基于上述背景技术中提到的问题，本实用新型提供了一种用于金属废料处理的萃取箱，它便于萃取时控制萃取剂和溶液排入的剂量，同时便于控制萃取后萃取剂的排放量，使用较为方便。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种用于金属废料处理的萃取箱，包括萃取箱和萃取剂箱，所述萃取箱外部侧壁上设有第一安装台，所述第一安装台顶端安装有连接柱，所述连接柱顶端套设有第二安装台，所述萃取剂箱安装在第二安装台侧壁上，所述萃取箱底部开设有第一排液口，所述第一排液口连接有第一排液管，所述第一排液管上安装有第一电磁阀，所述萃取剂箱底部开设有第二排液口，所述第二排液口连接有第二排液管，所述第二排液管上安装有第二电磁阀，所述萃取箱外壁上设有调节机构，所述调节机构包括结构相同的第一滑轨和第二滑轨，所述第一滑轨侧壁上水平开设有第一滑槽，所述第一滑轨顶端开设有第一安装孔，所述第一安装孔与第一滑槽连通，所述第一滑轨和第二滑轨上均设有容量刻度，所述第一滑轨和第二滑轨上分别安装第一调节块和第二调节块，所述萃取箱于调节机构一侧内部设有液位感应机构，所述液位感应机构包括第三滑轨、感应滑块、浮标、第一感应滑板、第二感应滑板、第一限位滑块和第二限位滑块，所述第三滑轨上开设有第二滑槽，所述第二滑槽侧壁上开设有限位槽，所述感 应滑块滑动卡接在第三滑轨上，所述感应滑块外壁的中部设有连接块，所述浮标安装在连接块上，所述感应滑块的两侧壁上分别安装有与连接块处于同一水平高度的第一轻触开关和第二轻触开关，所述第一轻触开关与第二电磁阀电连接，所述第二轻触开关与第一电磁阀电连接，所述第一限位滑块于第一轻触开关上部滑动卡接在第一感应滑板上，所述第一限位滑块上设有第一触碰头，所述第二限位滑块于第二轻触开关下部滑动卡接在第二感应滑板上，所述第二限位滑块上设有第二触碰头，所述第一感应滑板和第二感应滑板顶端均开设有第二安装孔，所述第一感应滑板和第二感应滑板侧壁上均开设有第三滑槽，所述第二安装孔与第三滑槽连通，所述第一安装孔和第二安装孔之间均连接有限位导管，所述限位导管内均穿设有金属软管，所述第一调节块与第一限位滑块、第二调节块与第二限位滑块均通过金属软管连接。

采用上述技术方案的实用新型，包括萃取箱和萃取剂箱，萃取箱和萃取剂箱上分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀，萃取箱外部设有调节机构，萃取箱内部设有液位感应机构，调节机构包括第一滑轨、第二滑轨和调节块，液位感应机构包括感应滑块、浮标、第三滑槽以及第一轻触开关、第二轻触开关和第一触碰头第二触碰头，第一轻触开关与第二电磁阀电连接用于控制第二电磁阀的关闭，第二轻触开关与第一电磁阀电连接用于控制第一电磁阀的关闭，第一限位滑块通过金属软管与第一调节块连接，第二限位滑块也通过穿设于限位导管内部的金属软管与第二调节块连接，通过调节在萃取箱外部调节第一调节块和第二调节块调节第一限位滑块和第二限位滑块的高度位置，浮标带动感应滑块随着液面高度的改变上下移动，带动第一轻触开关和第二轻触开关上下移动分别与第一触碰头和第二触碰头接触自动控制第一电磁阀和第二电磁阀的闭合，从而达到控制萃取剂和溶液的剂量以及控制萃取后下层萃取剂的排放，使用较为方便。

进一步限定，所述第一调节块和第二调节块的结构相同，所述第一调节块后端开设有卡槽，所述第一调节块前端开设有观测口，所述第一调节块卡设在第一滑轨上，所述第一调节块上螺接有固定螺杆，所述固定螺杆的外径尺寸大于第一滑槽的宽度尺寸，所述固定螺杆上设有调节环，这样的结构设计，第一调节块和第二调节块体调节方便，同时便于从第一调节块和第二调节块处观察容量刻度数据。

进一步限定，所述观测口的内侧壁上设指示板，所述指示板的端部为三菱柱结构，这样的结构设计，使读数更为准确。

进一步限定，所述调节环的外环为波纹面结构，这样的结构设计，调节环表面摩擦阻力较大使调节转动更加方便。