[实用新型]一种线扫描式激光清洗装置有效
| 申请号: | 201720937533.1 | 申请日: | 2017-07-28 |
| 公开(公告)号: | CN207271722U | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
| 发明(设计)人: | 王智勇;曾小迪;秦文斌;李景 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
| 主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 王莹,吴欢燕 |
| 地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 扫描 激光 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及激光设备技术领域,具体涉及一种线扫描式激光清洗装置。
背景技术
随着环保要求和人们对工业清洗认识的提高,工业生产清洗中可以使用的化学药品种类变得越来越少。激光清洗技术利用激光的烧烛作用,使表层污染物直接吸收激光能量气化、分解,达到清洗的目的。与传统的清洗方法相比,它具备清洗效果好、控制精度高、应用范围广、运行成本低、不污染环境等优点。激光清洗技术属于一种“非接触式”清洗方式,会减小在清洗过程中对基底造成的损伤程度,并且在一些高精度、危险的场所能够保证加工安全性。
然而,激光点光源在加工过程中会出现加工残留区域,效果和效率都达不到理想的状态,在现在加工对象和环境需求越来越广泛的条件下,对于不同的加工对象时,需要对扫描光束进行不同程度的调整,满足各种加工需求。并且激光清洗技术现在越来越多的应用于室外环境,传统的清洗装置只能在室内的工作移动平台上使用。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型的目的是提供一种线扫描式激光清洗装置,旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种线扫描式激光清洗装置,其中,包括壳体、激光器、一维扫描振镜、准直头以及聚焦系统,所述准直头和所述一维扫描振镜位于所述壳体内,所述准直头 通过光纤与位于所述壳体外部的激光器连接,在所述壳体上设置有供所述光纤穿过的第一通孔,所述一维扫描振镜位于所述激光器的出光光路上,所述聚焦系统位于所述一维扫描振镜的出光光路上,在所述壳体与所述聚焦系统对应的位置设置有出光口。
其中,所述一维扫描振镜包括一维反射镜、与一维反射镜连接的扫描电机,以及控制单元,所述控制单元与扫描电机连接。
其中,所述控制单元为驱动电路板,在所述驱动电路板上设置有二个可调电位器,用于控制扫描电机的工作状态。
其中,所述一维反射镜的反射表面镀有增反膜。
其中,还包括套设在所述聚焦系统外部的防尘罩,在防尘罩对应于聚焦系统聚焦后的光路上设置有出光口。
其中,还包括吹气单元和气管,所述气管的一部分位于所述壳体内,所述气管的第一端穿过所述第一通孔,并与所述吹气单元的出气口连通;另一端穿过所述壳体的第二通孔伸出,并与所述防尘罩连通,所述第二通孔位于所述壳体靠近所述防尘罩的面板上。
其中,还包括测距单元,所述测距单元固定在所述防尘罩上,且所述测距单元发出的测距光束与经所述聚焦系统聚焦的激光光束的轴线平行。
其中,在所述壳体上部还设有加工把手,在所述加工把手上设置有非自锁开关。
其中,在所述壳体上还设置有激光与指示光切换开关。
其中,在所述壳体上还设置有状态指示灯。
(三)有益效果
本实用新型提供的线扫描式激光清洗装置,通过采用一维扫描振镜,将点光源扫描成线光源,相对于点扫描式激光清洗装置来讲降低了手持移动速度和途径对加工效果的影响,提高了加工效率,且清洗效果好,适应范围广。
此外,该清洗装置通过采用驱动电路板作为控制单元,在驱动电路上设置有二个可调电位器,通过可调电位器可根据不同的加工需求调节扫描光束的状态,提高了效果和效率,
进一步地,该清洗装置还包括激光与指示光切换开关、状态指示灯,能够更加方便进行加工操作以及实时检测反馈整个装置的状态。
附图说明
图1为根据本实用新型的一种线扫描式激光清洗装置的原理示意图。
图中:1-激光器;2-准直头;3-一维扫描振镜;4-聚焦系统;5-驱动电路板;6-防尘罩;7-把手;8-测距模块;9-壳体。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
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