[发明专利]具有连续凹腔的加热器块

权利要求书

1.一种加热器块，所述加热器块适于安装在包括喷淋头和反应室的等离子体沉积或等离子体蚀刻设备中，所述加热器块适于布置在所述反应室中以支撑衬底，并且包括：

至少一个通孔，所述至少一个通孔穿过所述加热器块，和

在所述加热器块的上表面上的多个表面，所述多个表面彼此分离并且由连续凹腔限定；并且所述连续凹腔包括：

多个主凹状部或凹陷部，和

多个凹状通道，所述多个凹状通道实质上连接每两个相邻的主凹状部或凹陷部，以及

在所述加热器块的中心处的凹状部或凹陷部，该凹状部或凹陷部具有与所述多个主凹状部或凹陷部不同的形状或尺寸。

2.根据权利要求1所述的加热器块，其中，当以三维方式观察时，在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部具有圆柱形形状、没有尖端的倒锥形形状或多边柱状形状。

3.根据权利要求1所述的加热器块，其中，在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部具有圆柱形形状，所述圆柱形形状具有选自大约2毫米到大约20毫米的范围的直径。

4.根据权利要求1所述的加热器块，其中，在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部由多个凸状部的内侧壁限定，并且所述多个凸状部的外侧壁的轮廓具有圆形或多边形形状。

5.根据权利要求1所述的加热器块，其中，所述多个主凹状部或凹陷部和所述多个凹状通道由多个凸状部的侧壁限定。

6.根据权利要求1所述的加热器块，其中，限定在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部的多个凸状部具有与限定所述多个主凹状部或凹陷部和所述多个凹状通道的多个凸状部不同的形状。

7.根据权利要求1所述的加热器块，其中，限定在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部的多个凸状部具有与限定所述多个主凹状部或凹陷部和所述多个凹状通道的多个凸状部不同的形状，并且所述多个凸状部两者都具有侧壁，所述侧壁的边缘被以选自大约0.1毫米到大约2毫米的范围的半径圆化或倒角。

8.根据权利要求1所述的加热器块，其中，在所述加热器块的所述中心处的所述凹状部或凹陷部经由具有与实质上连接每两个相邻的主凹状部或凹陷部的所述多个凹状通道不同的形状或尺寸的凹状通道与相邻的主凹状部连接。

9.根据权利要求1所述的加热器块，其中，所述主凹状部或凹陷部中的每一个具有实质上相同的形状和尺寸。

10.根据权利要求1所述的加热器块，其中，所述至少一个通孔包含被用于衬底升降销的至少一个通孔。

11.一种加热器块，所述加热器块适于安装在包括喷淋头和反应室的等离子体沉积或等离子体蚀刻设备中，所述加热器块适于布置在所述反应室中以支撑衬底，并且包括：

至少一个通孔，所述至少一个通孔穿过所述加热器块，和

在所述加热器块的上表面上的多个表面，所述多个表面彼此分离并且由连续凹腔限定；并且所述连续凹腔包括：

多个主凹状部或凹陷部，和

多个凹状通道，所述多个凹状通道实质上连接每两个相邻的主凹状部或凹陷部，

其中在所述加热器块的所述中心处的凹状部或凹陷部由多个凸状部的内侧壁限定，并且所述多个凸状部的外侧壁的轮廓具有圆形或多边形形状。

12.一种衬底处理设备，包括根据权利要求1所述的加热器块。

13.根据权利要求12所述的衬底处理设备，其中，所述多个主凹状部或凹陷部、所述多个凹状通道和具有与所述多个主凹状部或凹陷部不同的形状或尺寸的在所述加热器块的中心处的所述凹状部或凹陷部由多个凸状部限定，并且所述衬底实质上由所述多个凸状部的顶表面支撑。