[发明专利]一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法

权利要求书

1.一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1,选取粒径38-45μm高纯纳米团聚羟基磷灰石粉末作为喷涂材料；

步骤2,对金属基体表面进行预处理去除表面氧化膜以及油污，然后对金属基体进行喷砂处理；聚羟基磷灰石粉末的纯度大于98％。

步骤3,将烘干后的步骤1所述的粉料采用大气等离子喷涂设备喷涂于步骤2经预处理和喷砂后的基体之上，喷涂工艺参数为：喷涂电流330-350A，喷涂电压50V，喷涂距离60mm，氩气流量23.5-25SLPM，枪摆速度150m/s，步进4mm，送粉率6-7g/min，送粉载气流量10-12SLPM。

2.按照权利要求1所述的一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法，其特征在于，其中在步骤2中，采用的基体为钛合金。

3.按照权利要求1所述的一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法，其特征在于，在步骤3中，采用的大气等离子喷枪为METCO 9MB，送粉方式为垂直送粉。

4.按照权利要求1所述的一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法，其特征在于，择优取向为c轴择优取向。

5.按照权利要求1所述的一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法，其特征在于，涂层中存在由大量的垂直于涂层表面的柱状晶构成的层结构，具有多层结构，层与层之间为平行叠加。