[发明专利]光刻胶及其制备方法有效
| 申请号: | 201711467218.8 | 申请日: | 2017-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN108089400B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
| 发明(设计)人: | 陈黎暄 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李莉 |
| 地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻 及其 制备 方法 | ||
本申请公开了一种光刻胶及其制备方法,光刻胶包括:包括至少一种树脂、光引发剂、溶剂以及至少一种散射粒子,散射粒子用于对照射入光刻胶中的紫外光进行散射。通过上述方式,本申请能够提高光刻胶在曝光过程中获取的曝光能量,从而降低光刻胶所需要的曝光时间。
技术领域
本申请涉及液晶显示器制造技术领域,特别是涉及一种光刻胶及其制备方法。
背景技术
普通的光刻胶由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成,且该混合液体对光敏感。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。
在液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)和半导体领域,光刻制程是非常常见的工艺制程。现有的光刻胶体系中,以正性光刻胶为例,其曝光的过程是将被紫外光照射到的区域通过显影液洗去,留下未被照射的区域,达到图案化的目的。在此个过程中,定义曝光的剂量(Dose)=曝光光能量S*曝光时间T。由于曝光过程中的光源能量基本稳定,所以当需要的Dose量一定时,曝光时间基本无法缩短。由于现代工艺中,曝光时间直接影响到生产工艺的总时间,从而影响单位时间的产量,使得在维持工艺特性稳定的情况下,缩短曝光时间成为必然选择。由于材料本身,特别是高分子聚合物本身的特性限定,Dose量的变化较为困难,此时需要考虑如何提高光刻胶材料实际获取的曝光能量。
现有技术中,常常通过在光刻胶和待蚀刻基底之间增加抗反射涂层(BARC),但此方案往往会导致反射回光刻胶体系内的光能量降低,使得实际的曝光能量下降。
发明内容
本申请提供一种光刻胶及其制备方法,能够提高光刻胶在曝光过程中获取的曝光能量,从而降低光刻胶所需要的曝光时间。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种光刻胶,所述光刻胶包括至少一种树脂、光引发剂、溶剂以及至少一种散射粒子,所述散射粒子用于对照射入所述光刻胶中的紫外光进行散射。
为解决上述技术问题,本申请采用的另一个技术方案是:提供一种光刻胶的制备方法,所述方法包括:制备包括至少一种树脂、光引发剂、溶剂的所述光刻胶;在所述光刻胶中制备至少一种散射粒子,所述散射粒子用于对照射入所述光刻胶中的紫外光进行散射。
本申请的有益效果是:提供一种光刻胶及其制备方法,通过在光刻胶中添加至少一种散射颗粒,可以提高光刻胶在曝光过程中获取的曝光能量,从而降低光刻胶所需要的曝光时间。
附图说明
图1是本申请柔性衬底的制备光刻胶第一实施方式的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本实施例中所提供的光刻胶可以包括如下成分:
至少一种树脂、光引发剂、溶剂以及至少一种散射粒子。
本申请中的树脂为感光树脂,且感光树脂是指利用某些聚合物具有光分解的特性,或某些单体具有光聚合或光交联的特性而产生图像的非银感光材料。在具体实施方式中,光刻胶中的感光树脂可以采用碱溶性树脂或热固性树脂或二者的组合。
光引发剂,可以为自由基型光引发剂或阳离子型光引发剂,或自由基型光引发剂和阳离子型光引发剂的组合,用于使相应的组分在紫外光的照射下可以发生自由基聚合和/或阳离子聚合反应。在具体实施方式中,光引发剂可以为酮肟脂类光引发剂、a-胺基酮类光引发剂、苯乙酮系光引发剂、芳香酮类光引发剂以及大分子引发剂中的一种或按任意比例组合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711467218.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





