[发明专利]低温等离子发生装置及气体处理系统

权利要求书

1.一种低温等离子发生装置，其特征在于，包括：

至少一个由金属和介质结合形成的柱状的放电电极元件；

至少另一个平行放置的相同的放电电极元件、或柱状或栅状金属地；

所述放电电极元件连接至高频高压电源，并对所述平行放置的放电电极元件、或对柱状或栅状金属地放电，以对通过所述放电电极元件与所述另一相同的放电电极元件之间、或与柱状或栅状金属地之间的间隙的气体产生低温等离子体反应。

2.如权利要求1所述的低温等离子发生装置，其特征在于：

所述柱状为圆柱状或者管状；

或

所述放电电极元件为由介质管在其内壁形成金属层而得到；

或

所述放电电极元件为由金属棒或管在其表面形成介质层而得到；

或

所述相对放置的放电电极元件为由金属电极架在其表面形成介质层而得到，其中，所述金属电极架包括在两端绝缘支撑固定并平行设置的至少两根金属棒或管，通过在所述至少两根金属棒或管表面形成介质层而得到所述相对放置的至少两个放电电极元件。

3.一种气体处理系统，其特征在于，包括如权利要求1至2任一项所述的低温等离子发生装置，其设置在所述系统的气体处理通道中的，工作气体经过所述低温等离子发生装置产生低温等离子体反应。

4.如权利要求3所述的系统，其特征在于：

所述工作气体穿过所述放电电极元件与所述另一相同的放电电极元件之间、或与柱状或栅状金属地之间的间隙的气体产生低温等离子体反应以产生臭氧。

5.如权利要求3所述的系统，其特征在于，还包括：

臭氧反应腔，经所述等离子发生装置处理后的所述工作气体进入所述臭氧反应腔中进行反应；

和/或，

在出口处设置的消解催化区，对前面处理过的工作气体进行消减处理；

和/或

水雾发生器，其用于产生水雾，以被所述工作气体带入所述等离子发生装置产生羟基自由基；

和/或

过滤止逆层，其设置在所述低温等离子发生装置的进气侧，以防止经由所述低温等离子发生装置产生的臭氧逆向扩散到系统外部；

和/或

高频高压电源提供设备，用于产生所述低温等离子发生装置所需的高频高压电源。

6.如权利要求3至5任一项所述的系统，其特征在于：

还包括封闭腔体，用于容纳所述系统的工作器件，所述腔体接地。