[发明专利]陶瓷表面处理方法及陶瓷件

说明书

本公开是关于一种陶瓷表面处理方法和陶瓷件。其中，通过在陶瓷表面涂覆光学膜，并在光学膜上涂覆与图案对应的遮挡层，以去除暴露在遮挡层外的第一区域。通过上述陶瓷表面处理方法在陶瓷表面形成所述图案，加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。

技术领域

本公开涉及电子技术领域，尤其涉及陶瓷表面处理方法及陶瓷件。

背景技术

在相关技术中，陶瓷广泛应用于航天工业、机械工程、电子、汽车、冶金、能源、生物等领域，是尖端技术中不可缺少的关键材料。作为设备外观面的陶瓷表面装饰变得非常重要，因此，陶瓷表面图案的实现方式成为本技术领域的研究热点。

发明内容

为解决相关技术中存在的问题，本公开提供一种陶瓷表面处理方法及陶瓷件。

根据本公开的第一方面提出一种陶瓷表面处理方法，包括：

在陶瓷表面涂覆光学膜，所述光学膜能够折射光线以产生预设颜色；

在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层，以使所述光学膜形成暴露在所述遮挡层外的第一区域，所述遮挡层能够保护所述光学膜免受侵蚀；

将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中，并持续浸没预设时间，至去除所述第一区域。

可选的，在陶瓷表面涂覆光学膜，包括：

在陶瓷表面涂覆调色薄膜层，所述调色薄膜层能够折射光线以产生预设颜色的基础颜色；

在所述调色薄膜层上涂覆增透薄膜层，形成所述光学膜；其中，所述增透薄膜层能够增加光的透射率，以使预设颜色的基础颜色透亮。

可选的，在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层，包括：

使用印刷治具向所述陶瓷表面印刷油墨，所述印刷治具覆盖在陶瓷表面，其上设有与所述图案对应的镂空孔。

可选的，在在陶瓷表面涂覆光学膜之前，还包括：对陶瓷表面进行抛光处理，以使陶瓷表面的表面粗糙度达到0.2微米以下。

可选的，在去除所述第一区域，在陶瓷表面形成所述图案之后，还包括：在陶瓷表面设置透光防指纹膜，所述透光防指纹膜能够透光且能够避免指纹附着。

可选的，所述光学膜通过物理气相沉积技术成型。

根据本公开的第二方面提出一种陶瓷件，应用上述陶瓷表面处理方法对所述陶瓷件进行加工，所述陶瓷件包括陶瓷本体以及设置在所述陶瓷本体上的图案层。

可选的，所述图案层至少包括：涂覆在所述陶瓷本体上的调色薄膜层和涂覆在所述调色薄膜层上的增透薄膜层。

可选的，所述调色薄膜层的材质包括五氧化三钛、铟中至少之一。

可选的，所述增透薄膜层的材质包括二氧化硅。

可选的，所述图案层的厚度范围为100-300纳米。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本公开通过在陶瓷表面涂覆光学膜，并在光学膜上涂覆与图案对应的遮挡层，以去除暴露在遮挡层外的第一区域。通过上述陶瓷表面处理方法在陶瓷表面形成所述图案，加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1为相关技术中一种陶瓷表面处理方法的流程图；