[发明专利]清洁方法

权利要求书

1.一种清洁方法，包括以下工序：

第一清洁工序，在处理室内在使上表面能够载置基板的旋转台在第一清洁位置旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给清洁气体；以及

第二清洁工序，在使所述旋转台在比所述第一清洁位置靠下方的第二清洁位置旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给所述清洁气体；

其中，在所述第一清洁工序中，供给所述清洁气体第一时间；在所述第二清洁工序中，供给所述清洁气体第二时间；并且

基于在所述旋转台的上表面堆积的反应生成物的堆积量和在所述旋转台的侧表面和/或下表面堆积的反应生成物的堆积量来决定所述第一时间与所述第二时间的比率，其中，在所述旋转台的上表面堆积的反应生成物的堆积量比所述旋转台的侧表面和/或下表面堆积的反应生成物的堆积量多的情况下，使所述第二时间比所述第一时间长；在所述旋转台的侧表面和/或下表面堆积的反应生成物的堆积量比所述旋转台的上表面堆积的反应生成物的堆积量多的情况下，使所述第一时间比所述第二时间长。

2.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，

在所述第一清洁工序之后进行所述第二清洁工序。

3.根据权利要求2所述的清洁方法，其特征在于，

在所述第一清洁工序之后且所述第二清洁工序之前包括第三清洁工序，在该第三清洁工序中，在使所述旋转台一边从所述第一清洁位置向所述第二清洁位置移动一边进行旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给所述清洁气体。

4.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，

在所述第二清洁工序之后进行所述第一清洁工序。

5.根据权利要求4所述的清洁方法，其特征在于，

在所述第二清洁工序之后且所述第一清洁工序之前包括第四清洁工序，在该第四清洁工序中，在使所述旋转台一边从所述第二清洁位置向所述第一清洁位置移动一边进行旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给所述清洁气体。

6.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，

交替重复进行所述第一清洁工序和所述第二清洁工序。

7.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，包括以下工序：

第三清洁工序，该第三清洁工序在所述第一清洁工序之后，在使所述旋转台一边从所述第一清洁位置向所述第二清洁位置移动一边进行旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给所述清洁气体；以及

第四清洁工序，该第四清洁工序在所述第二清洁工序之后，在使所述旋转台一边从所述第二清洁位置向所述第一清洁位置移动一边进行旋转的状态下，从所述旋转台的基板载置面的上方供给所述清洁气体，

按照所述第一清洁工序、所述第三清洁工序、所述第二清洁工序以及所述第四清洁工序的顺序重复进行这些工序。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的清洁方法，其特征在于，

所述清洁气体包括ClF₃气体。