[发明专利]一种抗耐药菌的复合纳米制剂及其制备方法

权利要求书

1.一种抗耐药菌的复合纳米制剂，其特征在于：所述复合纳米制剂由阳离子抗菌肽与阴离子脂质体通过静电作用复合而成；其中，所述阳离子抗菌肽的序列为RIVVIRVA、KIWVIRWR、RIWVIRWR、RIWVIWRR或RRWVIWRR中的一种；所述阴离子脂质体内包裹有抗生素药物；复合纳米制剂中，抗菌肽的最低抑菌浓度为0.1～3微克/毫升，抗生素的最低抑菌浓度为0.1～5微克/毫升。

2.根据权利要求1所述的抗耐药菌的复合纳米制剂，其特征在于：所述抗生素药物为罗红霉素、氟红霉素、克拉霉素、地红霉素、阿奇霉素、罗他霉素或米奥卡霉素中的一种，或是泰利霉素、喹红霉素或酮内酯类抗生素中的一种，或是四环素、土霉素、氯四环素、地美环素或甲氯环素中的一种，或是氯霉素、甲砜霉素或氟甲砜霉素中的一种。

3.根据权利要求1所述的抗耐药菌的复合纳米制剂，其特征在于：所述阳离子抗菌肽所带净电荷为+2～+6。

4.根据权利要求1所述的抗耐药菌的复合纳米制剂，其特征在于：所述阴离子脂质体的磷脂为聚乙二醇衍生化磷脂。

5.根据权利要求1所述的抗耐药菌的复合纳米制剂，其特征在于：所述阴离子脂质体的磷脂至少包含磷脂酸、磷脂酰甘油、磷脂酰丝氨酸、磷脂酰肌醇或心磷脂中的一种。

6.一种权利要求1所述的抗耐药菌的复合纳米制剂的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：

步骤1，将所需量的磷脂和胆固醇溶于氯仿或氯仿和甲醇的混合溶剂中，加入一定量的抗生素药物，旋转蒸发得到脂质薄膜，再经水化、超声分散后得到阴离子脂质体；

步骤2，将所需量的抗菌肽与步骤1制得的阴离子脂质体进行自组装后得到抗耐药菌的复合纳米制剂。

7.根据权利要求6所述的抗耐药菌的复合纳米制剂的制备方法，其特征在于：步骤1中，所述抗生素药物为罗红霉素、氟红霉素、克拉霉素、地红霉素、阿奇霉素、罗他霉素或米奥卡霉素中的一种，或是泰利霉素、喹红霉素或酮内酯类抗生素中的一种，或是四环素、土霉素、氯四环素、地美环素或甲氯环素中的一种，或是氯霉素、甲砜霉素或氟甲砜霉素中的一种。