[发明专利]酪氨酸激酶抑制剂XJF007及其中间体的制备方法

权利要求书

1.通式(I)化合物的制备方法，包括以下步骤：

化合物D与取代的4-硝基苯酚，在碱性催化作用下加热反应，得化合物CD，该化合物CD在还原剂作用下脱除保护基PG，形成化合物CD1；

化合物CD1与含有R6基团的化合物反应，生成化合物CDE，该化合物CDE在还原剂作用下还原硝基，形成化合物CDE1；

化合物CDE1和化合物AB反应，得通式(I)所示化合物；

其中，R1、R2、R3、R5分别为氢、卤素、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基、羟基、低级烷氧基、低级环烷氧基、低级烯烃基、低级炔烃基中的一种或多种；

R4为氢、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种；

R6为低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种，K选自低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种；

a、c分别表示数字0、1、2、或3，e为数字1或2或3；

PG为羟基保护基，包括苄基、对甲氧基苄基、二甲氧基苄基、三甲氧基苄基、三苯基甲基、甲氧甲基、三甲基硅基乙基、二氢呋喃保护基、二氢吡喃保护基、三乙基硅基、二甲基叔丁基硅基、二苯基叔丁基硅基；

R7为OH、Cl、活泼脂基、酸酐、混合酸酐中的一种，所述活泼脂基、酸酐、混合酸酐包括

R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15分别为氢、卤素、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基、羟基、低级烷氧基、低级环烷氧基、低级烯烃基、低级炔烃基中的一种或多种；

X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7分别选自氢、卤素、NO₂、CN、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种，X1～X7相互之间还可形成杂环、桥环、或螺环。

2.通式(I)化合物的制备方法，包括以下步骤：

化合物D与取代的4-硝基苯酚，在碱性催化作用下加热反应，得化合物CD，该化合物CD在还原剂作用下形成化合物CD2；

化合物CD2与化合物AB反应，生成化合物ABCD，该化合物ABCD在还原剂作用下脱除保护基PG，形成化合物ABCD1；

化合物ABCD1与含有R6基团的化合物反应，得通式(I)所示化合物；

其中，R1、R2、R3、R5分别为氢、卤素、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基、羟基、低级烷氧基、低级环烷氧基、低级烯烃基、低级炔烃基中的一种或多种；

R4为氢、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种；

R6为低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种，K选自低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种；

a、c分别表示数字0、1、2、或3，e为数字1或2或3；

PG为羟基保护基，包括苄基、对甲氧基苄基、二甲氧基苄基、三甲氧基苄基、三苯基甲基、甲氧甲基、三甲基硅基乙基、二氢呋喃保护基、二氢吡喃保护基、三乙基硅基、二甲基叔丁基硅基、二苯基叔丁基硅基；

R7为OH、Cl、活泼脂基、酸酐、混合酸酐中的一种，所述活泼脂基、酸酐、混合酸酐包括

R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15分别为氢、卤素、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基、羟基、低级烷氧基、低级环烷氧基、低级烯烃基、低级炔烃基中的一种或多种；

X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7分别选自氢、卤素、NO₂、CN、低级卤代烷烃基、低级卤代环烷烃基、低级烷烃基、低级环烷烃基中的一种，X1～X7相互之间还可形成杂环、桥环、或螺环。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述活泼脂基、酸酐、混合酸酐选自：

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述K选自的低级环烷烃基包含环烷烃基所述K选自的低级卤代烷烃基包含卤代烷烃基其中b、d为数字0、1、2、3、或4，E、F为氢、卤素、羟基、烷氧基、酮、巯基、烷基巯基中的一种。