[发明专利]一种阴图平印版前体及由其制备平印版的方法有效

专利信息
申请号: 201711093741.9 申请日: 2017-11-08
公开(公告)号: CN109752921B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 杨青海;宋小伟;吴兆阳;吴俊君;杨婧 申请(专利权)人: 乐凯华光印刷科技有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/032;B41C1/10
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司 41109 代理人: 霍彦伟
地址: 473003 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 阴图平印版前体 制备 平印版 方法
【权利要求书】:

1.一种阴图平印版前体,其特征在于:包含版基和版基之上的成像层,成像层包含:

(1)聚合物粘结剂;

(2)成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系;

(3)可聚合/交联的组分,包含含有酰胺基团或磺酰胺基团的聚氨酯丙烯酸酯低聚物;

所述含有酰胺基团或磺酰胺基团的聚氨酯丙烯酸酯低聚物是由六亚甲基二异氰酸酯或缩二脲三异氰酸酯与季戊四醇三丙烯酸酯和含有丙烯酰胺基的单体的反应物;

所述聚合物粘结剂的结构式为:

,或衍生自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯、羟基苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酰胺、或前述的组合的单体单元的共聚物粘合剂,聚合物粘合剂占成像层总质量的10-50%。

2.根据权利要求1所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述含有丙烯酰胺基的单体在聚氨酯丙烯酸酯低聚物中的质量分数为5-40%。

3. 根据权利要求1所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述含有丙烯酰胺基的单体为HO-R1-NH-CO-CH=CH2或 HO-R2-SO2-NH-CO-CH=CH2,其中R1代表烷基、芳基或芳烷基;R2代表芳基。

4.根据权利要求1所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系包括引发剂和一种吸收在750-850nm的菁染料,引发剂占成像层固体总质量的1-10%,菁染料占成像层固体总质量的1-20%。

5.根据权利要求4所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述引发剂为成像曝光时能产生足以引发聚合反应的自由基引发剂。

6.根据权利要求4所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述引发剂选自碘鎓盐、硫鎓盐、磷鎓盐、硒鎓盐中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的阴图平印版前体,其特征在于:所述版基是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基,其中心线平均粗度在0.3-0.6μm。

8.利用权利要求1-7任一所述的阴图平印版前体制备平印版的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:曝光所述阴图平印版前体,把曝光后的平印版安装到印刷机滚筒上,先用润版水润湿版面,再用油墨去除空白区域的涂层,即得阴图平印版。

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