[发明专利]一种显示装置在审
| 申请号: | 201710998759.7 | 申请日: | 2017-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN107688243A | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
| 发明(设计)人: | 刘耀阳;牛磊;徐健;李嘉灵 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
| 主分类号: | G02B27/22 | 分类号: | G02B27/22;G02B26/00;G02F1/1343;G02F1/29 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201201 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示装置 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
显示面板,包括多个显示单元;
微透镜组,所述微透镜组位于所述显示面板的出光侧的上方,所述微透镜组包括多个微透镜单元,且所述微透镜单元与所述显示单元一一对应设置,所述微透镜单元的中心与所述显示单元的中心之间的距离,从所述显示面板的中心位置到边缘位置逐渐增加;
液体透镜,设置于所述微透镜组远离所述显示面板的一侧,用于通过改变入射光的相位来实现悬浮图像的多层显示。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述多个显示单元的驱动信号的刷新频率与所述液体透镜的驱动电压的刷新频率相同。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述液体透镜的驱动电压的刷新频率的取值范围为大于或等于60赫兹。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述液体透镜与所述微透镜组接触。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述液体透镜为液晶光调制器、电润湿式可变焦透镜或压电式可变焦透镜。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述液晶光调制器包括相对设置的第一基板和第二基板,以及设置于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层;所述第一基板包括依次层叠的第一衬底、第一电极层以及第一配向层,所述第二基板包括依次层叠的第二衬底、第二电极层以及第二配向层,所述第一配向层和所述第二配向层分别位于所述液晶层的两侧。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述第一电极层为整层结构,所述第二电极层包括圆形电极以及多个环形电极;所述第一基板与所述第二基板的层叠方向为第一方向,所述圆形电极垂直于所述第一方向的截面的圆心为O,所述多个环形电极垂直于所述第一方向的截面的几何中心为Kn,则O与Kn重合;沿所述圆形电极直径的延伸方向,所述多个环形电极依次排列于所述圆形电极的外侧;所述第二电极层中相邻电极之间绝缘设置。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述第二电极层还包括至少一个连接电极,所述连接电极包括多个子连接电极,相邻所述子连接电极通过导电走线电连接;所述多个子连接电极位于同一环形上,所述环形的几何中心与所述圆形电极垂直于所述第一方向的截面的圆心O重合;沿所述圆形电极直径的延伸方向,所述至少一个连接电极依次排列于所述多个环形电极的外侧。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述环形电极的数量大于或等于9。
10.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述第一电极层包括多个绝缘设置的第一电极条,所述第二电极层包括多个绝缘设置的第二电极条,所述第一电极条和所述第二电极条的延伸方向垂直;沿所述第一基板和所述第二基板的层叠方向,所述显示单元与所述第一电极条和所述第二电极条的重叠区域一一对应。
11.根据权利要求10所述的显示装置,其特征在于,所述第一电极条和所述第二电极条的数量均大于或等于10。
12.根据权利要求10所述的显示装置,其特征在于,所述显示单元呈矩阵排列;所述第一基板与所述第二基板的层叠方向为第一方向,所述第一电极条和所述第二电极条垂直于所述第一方向的截面均为矩形。
13.根据权利要求10所述的显示装置,其特征在于,所述显示单元呈不规则排列;所述第一基板与所述第二基板的层叠方向为第一方向,所述第一电极条和所述第二电极条垂直于所述第一方向的截面中两个平行的长边为锯齿状。
14.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述液晶光调制器对入射光中红光的相位改变量大于或等于2π。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天马微电子有限公司,未经上海天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710998759.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种超纤合成革新型涂层含浸联合机
- 下一篇:一种成像系统以及成像方法





