[发明专利]气体导入机构和处理装置有效
| 申请号: | 201710887853.5 | 申请日: | 2017-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN107868946B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
| 发明(设计)人: | 福岛讲平;似鸟弘弥 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气体 导入 机构 处理 装置 | ||
1.一种气体导入机构,其是为了在处理容器内使用预定的气体来对基板实施预定的处理而设于所述处理容器的,该气体导入机构具有:
歧管,其配置于所述处理容器的下端部,具有:喷射器支承部,其沿着所述处理容器的内壁面上下延伸,并且,具有喷射器能够插入且能够外嵌支承该喷射器的插入孔;气体导入部,其从所述喷射器支承部向外侧伸出,在内部具有将所述插入孔和所述处理容器的外部连通而气体能够流通的气体流路;
所述喷射器,其插入所述插入孔,沿着所述内壁面整体呈直线状延伸,并且,在插入到所述插入孔的部位具有与所述气体流路连通的开口;
旋转机构,其与所述喷射器的下端部连接,使所述喷射器旋转,
其中,所述开口形成为以水平方向为长轴、以铅垂方向为短轴的椭圆形状,
在所述喷射器沿着长度方向形成有多个气孔,
所述旋转机构被配置为能够将所述多个气孔从朝向所述处理容器的中心的位置向左旋转第1规定角度,并且能够将所述多个气孔从朝向所述处理容器的中心的位置向右旋转第2规定角度。
2.根据权利要求1所述的气体导入机构,其中,
所述旋转机构具有:
连杆机构,其与所述喷射器的下端部连接;
缸,其与所述连杆机构连接,驱动所述连杆机构。
3.根据权利要求1所述的气体导入机构,其中,
所述旋转机构具有:
蜗轮蜗杆机构,其与所述喷射器的下端部连接;
马达,其与所述蜗轮蜗杆机构连接,驱动所述蜗轮蜗杆机构。
4.根据权利要求1所述的气体导入机构,其中,
所述旋转机构具有:
齿轮齿条,其与所述喷射器的下端部连接,
缸,其与所述齿轮齿条连接,驱动所述齿轮齿条。
5.根据权利要求1所述的气体导入机构,其中,
所述旋转机构具有:
旋转轴,其与所述喷射器的下端部连接;
马达,其与所述旋转轴连接,使所述旋转轴旋转。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的气体导入机构,其中,
所述处理容器和所述喷射器由石英形成,
所述歧管由金属形成。
7.一种处理装置,其具有:
处理容器;
歧管,其配置于所述处理容器的下端部,具有:喷射器支承部,其沿着所述处理容器的内壁面上下延伸,并且具有喷射器能够插入且能够外嵌支承该喷射器的插入孔;气体导入部,其从所述喷射器支承部向外侧伸出,在内部具有将所述插入孔和所述处理容器的外部连通而气体能够流通的气体流路;
所述喷射器,其插入所述插入孔,沿着所述内壁面整体呈直线状延伸,并且在插入到所述插入孔的部位具有与所述气体流路连通的开口;
旋转机构,其与所述喷射器的下端部连接,使所述喷射器旋转,
所述开口形成为以水平方向为长轴、以铅垂方向为短轴的椭圆形状,
在所述喷射器沿着长度方向形成有多个气孔,
所述旋转机构被配置为能够将所述多个气孔从朝向所述处理容器的中心的位置向左旋转第1规定角度,并且能够将所述多个气孔从朝向所述处理容器的中心的位置向右旋转第2规定角度。
8.根据权利要求7所述的处理装置,其中,
所述处理容器具有能够收容基板保持器具的大致圆筒体状,该基板保持器具能够沿着铅垂方向以使多个基板分开的状态保持该多个基板。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





