[发明专利]彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：

步骤S10、提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；

步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉；

步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；

步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备；

步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；

其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面以防止光线透过RGB色阻发生混色。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的制备材料为有机光阻、黑色框胶、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为有机光阻，采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述支撑柱制备在所述黑色矩阵表面。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在所述黑色矩阵表面涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。

5.根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为不透光金属或者金属氧化物，采用热蒸镀技术、磁控溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉淀技术的其中一者将所述支撑柱设置在所述黑色矩阵表面。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的长度与所述RGB色阻长边长度相同。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，覆盖于所述支撑柱的保护层为一层致密的氧化物薄膜，所述氧化物为氧化硅和氧化铝的其中一者或两者。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，采用溅射镀膜技术、气相沉积技术或原子层沉积技术制备所述保护层。

9.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板为刚性衬底或者柔性衬底。

10.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20中形成黑色矩阵的步骤包括：

在所述基板表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤制程形成所述黑色矩阵。