[发明专利]一种沟道槽翘曲度测量方法及装置

说明书

本申请实施例提供一种半导体存储器制造工艺过程中沟道槽翘曲度测量方法和装置，所述方法包括：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。本申请实施例可以有效提高沟道槽翘曲度测量的准确性和效率。

技术领域

本申请实施例涉及半导体技术领域，具体涉及一种半导体存储器制造工艺过程中沟道槽翘曲度测量方法及装置。

背景技术

在半导体技术领域，沟道槽刻蚀壁面的翘曲程度对后续工艺中沟道槽的填充、刻蚀均匀性具有显著影响。若沟道槽翘曲程度高，会引起栅线处淀积钨的侧壁厚度不均匀，进而导致栅线处钨和氮化钛层在淀积钨较厚处出现钨的残留，影响半导体器件的电学性能。因此，如何准确测量沟道槽刻蚀壁面的翘曲度成为一个重要的问题。

现有技术中，在测量沟道槽刻蚀壁面的翘曲度时，一般通过人眼判断、标定测量照片中沟道槽刻蚀壁面的位置，根据标定的位置测量沟道槽在不同截面处的宽度，然后计算这些宽度值的3倍方差的平均值来表征沟道槽刻蚀壁面的翘曲度。

申请人经过大量研究发现，尽管现有的测量方法可以在一定程度上反映出沟道槽壁面的翘曲程度，但是存在如下缺点：(1)现有技术中的测量方法通过人眼判断标定沟道槽刻蚀壁面的位置，存在主观性强、测量精度低、效率低的缺陷。(2)现有技术通过计算沟道槽在纵向上不同深度处的宽度的3倍方差值的方式来计算翘曲度，这种计算方式不能有效区分沟道槽宽度呈对称型变化但翘曲程度大的壁面形貌，存在测量准确性不高的缺陷。

发明内容

本申请实施例提供了一种沟道槽翘曲度测量方法及装置，旨在解决现有技术沟道槽翘曲度测量不准确、效率低的缺陷。

为此，本申请实施例提供如下技术方案：

本申请实施例的第一方面公开了一种沟道槽翘曲度测量方法，包括：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。

本申请实施例的第二方面公开了一种沟道槽翘曲度测量装置，包括：图像处理单元，用于获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；中心点坐标确定单元，用于根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；法线确定单元，用于选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；翘曲度计算单元，用于计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。

本申请实施例的第三方面公开了一种用于沟道槽翘曲度测量的装置，包括有存储器，以及一个或者一个以上的程序，其中一个或者一个以上程序存储于存储器中，且经配置以由一个或者一个以上处理器执行所述一个或者一个以上程序包含用于进行以下操作的指令：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。

本申请实施例的第四方面，公开了一种机器可读介质，其上存储有指令，当由一个或多个处理器执行时，使得装置执行如第一方面所述的沟道槽翘曲度测量方法。