[发明专利]基板处理系统

权利要求书

1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：

多个基板处理模块(100)，形成密闭的处理空间(S)，在多个基板装载于托盘(20)的状态下执行基板处理；

运送模块(200)，设置有运送机器人(210)，与所述多个基板处理模块(100)相结合，分别将托盘(20)运出或导入于所述基板处理模块(100)；以及

基板交换模块(300)，结合于所述运送模块(200)，将在所述基板处理模块(100)中完成基板处理的基板(10)从托盘(20)卸载，并将要进行基板处理的基板装载于托盘(20)，

其中，所述基板交换模块(300)包括：托盘运出部(310)，为了托盘(20)的外部运出而依靠运送机器人(210)传递，

所述托盘运出部(310)配置在所述基板交换模块(300)的下部空间，

所述运送机器人(210)包含分别用于支撑托盘(20)底面的一对机器臂，以及为了向所述基板处理模块(100)或基板交换模块(300)运出或导入托盘(20)而驱动所述一对机器臂的水平或上下移动的驱动部。

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板交换模块(300)中，除了与所述运送模块(200)相结合的侧面，在剩下的侧面中至少一个上设置有托盘装载部330，装载通过所述托盘运出部(310)向外部运出的托盘(20)。

3.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板交换模块(300)还包括托盘移动部(340)，设置于所述托盘运出部(310)并将通过所述运送机器人(210)而移动至托盘运出部(310)的托盘(20)向外部移动。

4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，

所述托盘移动部(340)包括滚轮，所述滚轮支撑所述托盘(20)并可旋转。

5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，

所述托盘移动部(340)还包括驱动所述滚轮旋转的驱动部。

6.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板交换模块(300)还包括对齐部，设置在所述托盘运出部(310)，将由所述托盘运出部(310)运入的托盘(20)的水平位置进行排列。

7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述运送模块(200)形成四角形形状，根据侧面的情况而可与三个基板处理模块相结合。

8.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板处理模块(100)包括：

工艺腔室(110)，形成所述处理空间(S)；

基板支撑部(130)，设置于所述工艺腔室(110)，并施加至少一个RF电源，支撑安置至少一个基板(10)的托盘(20)；

气体喷射部(140)，设置于所述处理空间(S)的上侧，喷射用于进行基板处理的气体；以及

托盘封盖部(150)，为了防止所述托盘(20)导入所述基板处理模块(100)内或者运出时产生干涉，设置在所述工艺腔室(110)内，并可进行上下移动，形成多个开口部(152)，使所述气体喷射部(140)喷射的气体流入。