[发明专利]一种多通道晶体单色器及其制备方法、工作方法

权利要求书

1.一种多通道晶体单色器，其特征在于，包括一具有本征对称性的晶体，选取该晶体一N次对称的晶向为轴，该晶体中以该轴对称的侧棱面分别切割出一工作面，形成以该轴为对称轴的一对工作面，且当X射线满足设定角度入射每一对工作面均能产生衍射；其中，N为偶数。

2.如权利要求1所述的多通道晶体单色器，其特征在于，所述单色器的材料为硅单晶，所述工作面为硅的(220)晶面，所述轴为硅的<001>或<-111>晶向。

3.如权利要求1所述的多通道晶体单色器，其特征在于，所述N取值为4或6。

4.一种多通道晶体单色器制备方法，其步骤包括：

1)选取一具有本征对称性的硅单晶，选取该晶体一N次对称的晶向为轴；

2)将该晶体中以该轴对称的侧棱面进行切割，分别得到一工作面，即形成以该轴为对称轴的一对工作面，且当X射线满足设定角度入射时每一对工作面均能产生衍射；其中，N为偶数。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述单色器的材料为硅单晶，所述工作面为硅的(220)晶面，所述轴为硅的<001>或<-111>晶向。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述N取值为4或6。

7.一种权利要求1所述多通道晶体单色器的工作方法，其步骤为：当X射线入射所述多通道晶体单色器时，控制所述多通道单色器绕所述轴旋转，当每对工作面与X射线的光路满足固定的角度差时产生光束出射。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述单色器的材料为硅单晶，所述工作面为硅的(220)晶面，所述轴为硅的<001>或<-111>晶向。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述N取值为4或6。