[发明专利]基板的制造方法

权利要求书

1.基板的制造方法，所述基板在一个主面上具有：滤色片；在所述滤色片上直接形成的或隔着透明层而形成的经图案化的金属层；和被覆所述经图案化的金属层的被覆树脂层，

所述方法包括下述工序：

感光层形成工序，在具有所述滤色片、和在所述滤色片上直接形成的或隔着透明层而形成的被蚀刻金属层的被加工基板中，将正型感光性树脂组合物涂布于所述被蚀刻金属层上，形成感光层；

曝光工序，将所述感光层中的形成所述经图案化的金属层的位置以外的位置曝光；

显影工序，将经曝光的所述感光层显影，形成所述被覆树脂层；

蚀刻工序，使用所述被覆树脂层作为蚀刻掩模，利用蚀刻将从所述蚀刻掩模露出的所述被蚀刻金属层除去，形成所述经图案化的金属层；和

后烘烤工序，对所述被覆树脂层进行烘烤，

所述正型感光性树脂组合物中包含的基体树脂成分(A)的分散度即重均分子量Mw/数均分子量Mn为大于5且为20以下，

制造的所述基板中，所述被覆树脂层的光密度为0.10/μm以上。

2.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述正型感光性树脂组合物包含作为基体树脂成分(A)的Novolac树脂(A1)、及含有醌二叠氮基的化合物(B1)。

3.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述正型感光性树脂组合物包含作为基体树脂成分(A)的通过酸的作用从而增大在碱中的溶解性的树脂(A2)、及通过活性光线或放射线的照射而产生酸的化合物(B2)。

4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述被加工基板包括液晶盒，所述后烘烤工序中的烘烤温度为80℃以上150℃以下。