[发明专利]蚀刻液组合物及利用到该组合物的金属图案制造方法

说明书

本发明涉及一种蚀刻液组合物及利用到该组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢；含氟化合物；唑系化合物；含羧基胺系化合物；磷酸系化合物；被C₁‑C₅烷基所取代或未被取代的丙二醇或者被C₁‑C₅烷基所取代或未被取代的丁二醇；以及水。

技术领域

本发明涉及一种蚀刻液组合物及利用到该组合物的金属图案制造方法。

背景技术

通常，薄膜晶体管显示板(Thin Firm Transistor；TFT)在液晶显示装置或有机电致发光(Electro Luminescence；EL)显示装置等中被用作独立驱动各个像素的电路基板。薄膜晶体管显示板形成有用于传递扫描信号的扫描信号布线或栅极布线、以及用于传递图像信号的图像信号线或数据布线，并由连接于栅极布线及数据布线的薄膜晶体管、以及连接于薄膜晶体管的像素电极等构成。

在制造这样的薄膜晶体管显示板时，在基板上层叠栅极布线及数据布线用金属层，其后续执行用于蚀刻这些金属层的过程。

近来，为了实现伴随显示面板的大面积化而至的图像稳定化，栅极布线由导电率特性优良的Ti/Cu构成，以利于具备迅捷的响应速度。在形成栅极布线之后，为了使层叠于上部的层不具有缺陷，栅极布线的末端需要呈现出徐缓形态的锥角。而且，为了改善工艺中的效率并节省工艺成本，要求蚀刻液组合物的特性能够维持较长的时间。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种既具备优良的发热稳定性又能够长期反复使用的蚀刻液组合物及利用到该组合物的金属图案的制造方法。

根据一方面，提供一种蚀刻液组合物，其包含：过氧化氢；含氟化合物；唑系化合物；含羧基胺系化合物；磷酸系化合物；被C₁-C₅烷基所取代或未被取代的丙二醇或者被C₁-C₅烷基所取代或未被取代的丁二醇；以及水。

根据另一方面，提供一种金属图案的制造方法，包括如下步骤：在基板上形成金属膜；在所述金属膜上形成光致抗蚀图案；以及将所述光致抗蚀图案用作掩膜而使如上所述的蚀刻液组合物接触到所述金属膜，从而将金属膜蚀刻。

对于所述蚀刻液组合物而言，即使处理枚数累积也不会发生发热反应，因此表现出优良的发热稳定性。

并且，对于所述蚀刻液组合物而言，即使处理枚数累积或者在制造后存放预定日数，也可以维持新液的特性，因此所述蚀刻液组合物可被长期反复使用。

进而，可利用所述蚀刻液组合物而制造金属图案，从而节省工艺成本。

附图说明

图1至图3为用于说明根据本发明的一实施例的金属图案的形成方法的剖面图。

图4a是表示铜浓度为0ppm的条件下的制造例2的蚀刻液组合物的蚀刻轮廓的SEM照片。

图4b是表示铜浓度为7000ppm的条件下的制造例2的蚀刻液组合物的蚀刻轮廓的SEM照片。

图5a是表示铜浓度为0ppm的条件下的制造例2的蚀刻液组合物被存放7天之后的蚀刻轮廓的SEM照片。

图5b是表示铜浓度为0ppm的条件下的制造例2的蚀刻液组合物被存放14天之后的蚀刻轮廓的SEM照片。

符号说明

110：基板 122：钛合金膜

124：铜膜 130：光致抗蚀图案

ML：金属膜 MP：金属图案

具体实施方式