[发明专利]功能性膜层的成膜方法、功能性膜层，及抗菌抗指纹元件

权利要求书

1.一种功能性膜层的成膜方法，其特征在于：包含：分别准备一第一待镀材料及一第二待镀材料，让该第一、二待镀材料分别作为抗菌材料及抗指纹材料，利用物理性共镀膜方式于一基材表面形成一层由该第一待镀材料及第二待镀材料共同构成且具有抗菌及抗指纹特性的功能性膜层，其中，该第一待镀材料包含由聚氨基硅氧烷化合物构成的抗菌化合物，该聚氨基硅氧烷化合物是由具有氨基硅氧烷官能基团的反应单体经过水解反应及缩合反应后而得，且分子量介于400至250000，该具有氨基硅氧烷官能基团的反应单体选自3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、2-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷、三氨基官能基丙基三甲氧基硅烷、双[3-(三乙氧基硅基)丙基]胺、二氨基烷基官能基硅氧烷、阳离子苯氨官能基硅烷、阳离子乙烯基苯氨官能基硅烷、2-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、3-脲丙基三乙氧基硅烷，或前述其中一组合；该第二待镀材料包含抗指纹化合物，该抗指纹化合物选自含氟高分子化合物、含硅高分子化合物，及含氟及硅高分子化合物的其中至少一种。

2.根据权利要求1所述功能性膜层的成膜方法，其特征在于：该第一待镀材料还包含二氧化硅颗粒，该抗指纹化合物为含氟的高分子化合物，且于物理性共镀膜过程所述二氧化硅颗粒不会随抗菌材料而挥发。

3.根据权利要求1所述功能性膜层的成膜方法，其特征在于：该第一待镀材料还包含银、锌、铜，锆、钛、铂及金的其中至少一种金属原子或离子。

4.根据权利要求1所述功能性膜层的成膜方法，其特征在于：该功能性膜层是利用将该第一待镀材料及第二待镀材料以共蒸镀方式形成。

5.根据权利要求1所述功能性膜层的成膜方法，其特征在于：该功能性膜层的膜厚介于10Å至1μm。

6.一种功能性膜层，其特征在于：该功能性膜层是根据权利要求1所述功能性膜层的成膜方法所制得，且该功能性膜层对大肠杆菌及多重抗性金黄色葡萄球菌的至少一种具有抗菌性。

7.一种抗菌抗指纹元件，其特征在于：包含：一基材，及一形成于该基材表面，如权利要求6所述的功能性膜层。