[发明专利]检测有源区软连接节点的方法有效
| 申请号: | 201710543968.2 | 申请日: | 2017-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN107390112B | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
| 发明(设计)人: | 曹云 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号: | G01R31/28 | 分类号: | G01R31/28 |
| 代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 检测 有源 连接 节点 方法 | ||
1.一种检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,包括:
获取电路版图,所述电路版图包括阱区、位于阱区中的有源区及位于阱区上的多个节点,多个节点之间通过所述有源区电性连接;
建立多个节点上的金属互连线的连接关系,将所述节点与直接连接的第一层金属互连线定义为单向导通;
将所述电路版图与电路进行比对,显示出浮空的金属互连线,将连接有两个以上浮空的金属互连线的有源区定义为软连接节点。
2.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,所述阱区为N型掺杂阱区。
3.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,所述单向导通为第一层金属互连线至所述节点的单向导通。
4.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,所述第一层金属互连线通过通孔结构与所述节点电性连接。
5.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,所述有源区中形成有源区、漏区,第一层金属互连线与所述源区或漏区相连。
6.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,所述节点上具有3~6层金属互连线,相邻层的金属互连线之间通过通孔结构电性连接。
7.如权利要求1所述的检测有源区软连接节点的方法,其特征在于,相邻层的金属互连线之间的连接为双向导通。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710543968.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





