[发明专利]适用于负性显影的用于形成有机抗反射涂层的组合物

权利要求书

1.一种用于形成有机抗反射涂层的组合物，包含：

含有至少一个由下式2表示的部分的异氰脲酸酯化合物；

由下式3表示的聚合物；以及

用于溶解上述组分的有机溶剂，

[式2]

[式3]

在式2中，R独立地为氢原子或甲基，R’独立地为含0至6个杂原子的具有1至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，R”独立地为含0至8个杂原子的具有1至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，两个或更多个由式2表示的部分通过R’连接，

在式3中，R₁独立地为氢或甲基(-CH₃)，R₂为羟基(-OH)或含0至2个羟基的具有1至5个碳原子的烷氧基，R₃为含0至2个杂原子的具有3至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，R₄为含0至3个杂原子的具有5至15个碳原子的芳基，x、y和z各自为构成所述聚合物的各重复单元的摩尔％，x为40摩尔％至70摩尔％，y为5摩尔％至25摩尔％并且z为15摩尔％至45摩尔％。

2.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其中所述异氰脲酸酯化合物的量为1重量％至10重量％，所述聚合物的量为0.1重量％至5重量％并且所述有机溶剂的量为85重量％至98.9重量％。

3.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，还包含：0.01重量％至0.4重量％的用于使所述异氰脲酸酯化合物交联的交联剂；以及0.02重量％至0.5重量％的用于促进所述异氰脲酸酯化合物的交联反应并且用于向光刻胶的下面部分供应酸的酸发生剂。

4.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其中R’独立地为含0至2个杂原子的具有1至10个碳原子的烷基，R”独立地为(i)含0至2个杂原子的具有1至10个碳原子的烷基，或者(ii)含0至2个杂原子的具有4至10个碳原子的环烷基、芳基或杂环基，

R₂为含0至2个羟基的具有1至3个碳原子的烷氧基，R₃为含0至2个羟基的具有3至12个碳原子的烷基或环烷基，或者含1至2个氧原子的具有3至12个碳原子的杂环基，R₄为含0至2个氧原子的具有6至12个碳原子的芳基。

5.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其中所述聚合物的重均分子量为3,000至10,000。

6.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其中由式2表示的所述异氰脲酸酯化合物是包含由以下式2a至2h表示的重复单元的化合物，并且选自

及其混合物，

由式3表示的所述聚合物选自及其混合物，其中在式3a至3g中，x、y和z与式3中限定的相同。

7.根据权利要求1所述的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其中所述有机溶剂选自环己酮、环戊酮、丁内酯、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、四氢糠醇、丙二醇单甲醚(PGME)、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、乳酸乙酯、其混合物。