[发明专利]一种用LiAlH4制取发光多孔硅的方法有效
| 申请号: | 201710354198.7 | 申请日: | 2017-05-18 |
| 公开(公告)号: | CN107057690B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
| 发明(设计)人: | 汪徐春;张文;张雪梅;叶祥桔;陈俊明;过家好;张婷;刘涛;严家玉;徐鑫强 | 申请(专利权)人: | 安徽科技学院 |
| 主分类号: | C09K11/59 | 分类号: | C09K11/59;C01B33/023;C01F7/04 |
| 代理公司: | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人: | 王琪 |
| 地址: | 233000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 lialh4 制取 发光 多孔 方法 | ||
一种用LiAlH4制取发光多孔硅的方法,为:将白炭黑、LiAlH4按(0.8‑1.6):(0.53‑1.13)重量份之比混均得混合物,将混合物置于炉腔容积为10‑30升的加热炉内;在混合物表面均匀撒布100‑325目的碳粉,碳粉、混合物重量份之比为(0.07‑0.17):(1.33‑2.73);将加热炉炉腔温度经1‑2h升温至400‑550℃,保温反应3‑5h,得到反应产物;将反应产物逐步冷却至室温,冷却条件为每小时降低温度55‑65℃,然后,依次利用盐酸、常温蒸馏水、乙醇洗涤反应产物至少一遍,得到洗涤物;将洗涤物在90‑110℃烘干2‑3h,得到光电效应较佳的发光多孔硅。
技术领域
本发明涉及一种用LiAlH4制取发光多孔硅的方法。
背景技术
现有制取发光多孔硅的方法,大都采用电化学腐蚀法,即:在聚四氟乙烯腐蚀槽里,插入硅片和铂片分别作为阳极和阴极,用氢氟酸或氢氟酸加乙醇作为电解液,发光多孔硅的制取受到溶液的浓度和成分、电流密度、电阻率、环保及温度等诸多因素的限制,发光多孔硅的制取对光照较为敏感。该方法制取发光多孔硅的化学反应过程较复杂,至今并不完全清楚,在氢氟酸溶液中,硅片的电化学腐蚀速度是极慢的,产生的废液也难以处理。
该方法存在以下缺馅:一、制取过程中产生废液等,污染环境;二、制取过程中消耗大量的电能,能耗高;三、制得的发光多孔硅提纯较困难;四、制取成本高(原材料价格较高),所用设备须耐腐蚀(氢氟酸的腐蚀性极强),结构较复杂。上述缺馅,使得现有制取发光多孔硅的方法难以在工业上大规模使用。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用LiAlH4制取发光多孔硅的方法,本方法绿色环保,能耗低,工艺简单,成本低,设备少且简单,易于在工业上大规模使用;另,制取的发光多孔硅的光电效应较佳。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种用LiAlH4制取发光多孔硅的方法,依次包括以下步骤:
(1)将白炭黑、LiAlH4按(0.8-1.6):(0.53-1.13)的重量份之比混合均匀,得混合物,并将混合物置于炉腔容积为10-30升的加热炉内;
(2)在混合物的表面均匀撒布100-325目的碳粉,碳粉、混合物的重量份之比为(0.07-0.17):(1.33-2.73);
(3)将加热炉的炉腔温度经1-2h升温至400-550℃,保温反应3-5h,得到反应产物;
(4)将反应产物逐步冷却至室温,冷却条件为每小时降低温度55-65℃,然后,依次利用盐酸、常温蒸馏水、乙醇洗涤反应产物至少一遍,得到洗涤物;
(5)将洗涤物在90-110℃的温度下烘干2-3h,得到发光多孔硅。
在本发明的制备方法中:
(3)中,将加热炉的炉腔温度经1-2h升温至400-550℃,保温反应3-5h,得到反应产物。这样,碳粉经过有氧燃烧,可充分消耗加热炉中的氧气,为还原反应打下良好基础。
其反应机理为:LiAlH4+SiO2=LiAlO2+Si+4H2↑
这样,在较低的反应温度(400-550℃)、较短的反应时间(3-5h)条件下,白炭黑(微米或纳米级二氧化硅)、LiAlH4(还原剂)之间就可充分地发生还原反应并得到反应产物,反应产物中包括LiAlO2(盐类)、发光多孔硅。
故,本方法的优点为:
一、绿色环保,制取过程中产生的是盐类,不会污染环境;
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