[发明专利]一种光学镀膜褪镀工艺

权利要求书

1.一种光学镀膜褪镀工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1：设计遮挡图案并制作网版：使用CAD、COREIDRAW软件进行设计，然后进行图案输出和菲林制作，再将菲林图案在网版上进行显影，显影的温度为25-30℃，显影时间为25-35mm；

S2：印刷：调试好印刷机，将网版安装在印刷机网框臂上固定，然后将特性油墨倒入网版上并均匀涂抹，再将未电镀产品放置在印刷台上，使用印刷机将网版上的遮挡图案印刷于未电镀产品上；

S3：干燥固化：调试好烘干设备，将印刷好的未电镀产品放入烘干设备内进行烘干，对产品进行固化，烘烤干燥时间为6-8分钟，烘烤干燥温度为60-100℃；

S4：电镀：调试好镀膜机，将膜料放入镀膜机内，然后将未电镀产品固定在镀膜机上，使用镀膜机对未电镀产品进行电镀处理；

S5：清洗：将产品放入清水清洗，清洗时间为15-20min，将油墨洗净，即可得退镀产品。

2.根据权利要求1所述的一种光学镀膜褪镀工艺，其特征在于，所述未电镀产品为PC板、PET板、电路板或玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种光学镀膜褪镀工艺，其特征在于，所述步骤S4中使用的电镀方式为光学镀膜、真空镀膜或光学磁控溅镀。

4.根据权利要求1所述的一种光学镀膜褪镀工艺，其特征在于，所述特性油墨为水溶性油墨或水溶性胶水，水溶性油墨的的型号为ML-HS-KB150C，且水溶性油墨的主要成分为：改性聚丙烯酸树脂49％-58％、二二丙二二醇甲醚22-29％和去离子水20-28％。

5.根据权利要求1所述的一种光学镀膜褪镀工艺，其特征在于：所述镀膜机为1300型光学电子枪镀膜机，镀膜机的束流为5.0，电压为高压85安，所述的膜材料为二氧化钛和二氧化硅，所述的印刷机为3045型印刷机。