[发明专利]多柱装置和多柱式带电粒子束曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及具有多个产生带电粒子束的柱(column)部的多柱式带电粒子束曝光装置。

背景技术

一直以来，已知利用电子束等带电粒子束来加工微细的图案的带电粒子束曝光技术(例如，参照专利文献1)。

作为这样的带电粒子束曝光技术的一种，还知道这样的多柱式带电粒子束曝光装置：其具有多个产生带电粒子束的柱(例如，参照专利文献2)。

根据多柱式带电粒子束曝光装置，能够利用多个柱同时并行地进行图案的描画，因此曝光处理的速度大幅提高。

专利文献1：日本特开2013-16744号公报

专利文献2：日本特开2015-133400号公报

在具有多个柱的多柱式带电粒子束曝光装置中，由于分别驱动各个柱，因此可能导致每个柱的带电粒子束的特性出现差异。

发明内容

因此，本发明的课题在于提供一种使每个柱的带电粒子束的特性的差异较小的多柱式带电粒子束曝光装置。

根据下述公开的一个观点，提供一种多柱装置，其具有多个产生带电粒子束的柱部，其中，所述多柱装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；以及配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接。

另外，根据另一个观点，提供一种多柱式带电粒子束曝光装置，其具有多个产生带电粒子束的柱部，其中，所述多柱式带电粒子束曝光装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接；工作台部，其载置试样；柱控制部，其控制所述多柱装置的动作；以及工作台控制部，其控制所述工作台部的动作。

根据上述观点的多柱式带电粒子束曝光装置，减小了各个电源的输出特性的偏差的影响，因此每个柱的带电粒子束的特性的差异变小。

附图说明

图1示出了本实施方式的曝光装置100的结构例。

图2示出了本实施方式的曝光装置100使电子束扫描而在试样10的表面的一部分上形成的可照射区域200的一例。

图3是示出本实施方式的柱部122的一部分的剖视图，并且是示出对柱部122进行控制的柱控制部140的一部分的图。

图4是示出本实施方式的多柱装置120所具备的电磁透镜50的结构例的剖视图。

图5示出了在由3个柱部122构成的柱组中的线圈部52的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。

图6是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第1结构例的图。

图7示出了在由5个柱部122构成的柱组124中的线圈部的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。

图8是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第2结构例的图。

图9示出了在由6个柱部122构成的柱组124中的线圈部的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。

图10是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第3结构例的图。

图11是示出多柱装置120所具备的电磁透镜50的以往例的剖视图。

图12的(a)是示出电磁校正器40的结构例的图，图12的(b)是示出被线圈部42激励的电磁校正器40的磁场的方向的俯视图。

图13是示出由3个柱部122构成的柱组中的电磁校正器40的线圈部42的连接的图。

标号说明

10：试样；20：电子源；22：真空容器；24：真空间隔壁；26：外壁部；30：电磁偏转器；40：电磁校正器；42：线圈部；42a、42b、42c、42d：分割出的绕组；43：磁性体环；43a、43b、43c、43d：伸出部；50：电磁透镜；52：线圈部；52a、52b、52c、52d、52e：分割出的绕组；52aa、52ab：绕组的部分；52z：不对透镜进行励磁的绕组；53：磁性体部；54：间隙部；55：线缆；56：连接部；100：曝光装置；110：工作台部；120：多柱装置；122：柱部；124：柱组；130：CPU；132：总线；134：存储电路；140：柱控制部；142：驱动部；144：偏转器控制部；146：校正器控制部；148：透镜控制部；150：工作台控制部；200：可照射区域；210：照射位置；220：区域；232：第1框；234：第2框；236：第3框。

具体实施方式