[发明专利]一种基于双摄像头的曝光调节终端及方法在审
| 申请号: | 201710106591.4 | 申请日: | 2017-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN106851063A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
| 发明(设计)人: | 陈明生 | 申请(专利权)人: | 努比亚技术有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/235 |
| 代理公司: | 深圳市凯达知识产权事务所44256 | 代理人: | 刘大弯,沈荣彬 |
| 地址: | 518057 广东省深圳市南山区高新区北环大道9018*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 摄像头 曝光 调节 终端 方法 | ||
1.一种基于双摄像头的曝光调节终端,其特征在于,包括第一摄像模块、第二摄像模块和调节控制模块,其中:
所述第一摄像模块,用于捕获前景图像,并确定所述前景图像对应的第一曝光量;
所述第二摄像模块,用于捕获背景图像,并确定所述背景图像对应的第二曝光量;
所述控制调节模块,用于当所述第一曝光量超出所述第二曝光量预设范围时,分别控制调节所述第一摄像模块的第一拍摄参数和所述第二摄像模块的第二拍摄参数,使所述第一曝光量与所述第二曝光量位于预设范围内,在所述预设范围内所述前景图像的背景光线与所述背景图像的背景光线反差小于预设值。
2.根据权利要求1所述的基于双摄像头的曝光调节终端,其特征在于,所述控制调节模块包括:
对比模块,用于确定所述第一曝光量与所述第二曝光量是否位于预设范围内;
第一调节模块,用于当所述第一曝光量超出所述第二曝光量预设范围时,调节所述第一摄像模块的第一拍摄参数;
第二调节模块,用于当所述第一曝光量超出所述第二曝光量预设范围时,调节所述第二摄像模块的第二拍摄参数;
控制模块,用于当调节所述第一曝光量与所述第二曝光量位于预设范围内时,控制所述第一调节模块和所述第二调节模块分别停止对所述第一拍摄参数和所述第二拍摄参数的调节。
3.根据权利要求1所述的基于双摄像头的曝光调节终端,其特征在于,所述第一摄像模块包括:
第一摄像模块,用于捕获图像;
第一获取模块,用于从所述第一摄像模块捕获图像中识别出前景图像,感测所述前景图像上的曝光量得到所述第一曝光量;
所述第二摄像模块包括:
第二摄像模块,用于捕获图像;
第二获取模块,用于从所述第二摄像模块捕获的图像中识别出背景图像,感测所述背景图像上的曝光量得到所述第二曝光量。
4.根据权利要求1所述的基于双摄像头的曝光调节终端,其特征在于,还包括:
第一曝光编辑模块,用于根据第一曝光调节指令调整所述第一曝光量;
第二曝光编辑模块,用于根据第二曝光调节指令调整所述第二曝光量。
5.根据权利要求1所述的基于双摄像头的曝光调节终端,其特征在于,还包括:
第一拍摄参数调节模块,用于根据第一参数调节指令调整所述第一拍摄参数;
第二拍摄参数调节模块,用于根据第二参数调节指令调整所述第二拍摄参数。
6.一种基于双摄像头的曝光调节方法,其特征在于,所述方法包括:
捕获前景图像,并确定所述前景图像对应的第一曝光量;
捕获背景图像,并确定所述背景图像对应的第二曝光量;
当所述第一曝光量超出所述第二曝光量预设范围时,分别控制调节所述第一摄像模块的第一拍摄参数和所述第二摄像模块的第二拍摄参数,使所述第一曝光量与所述第二曝光量位于预设范围内,在所述预设范围内所述前景图像的背景光线与所述背景图像的背景光线反差小于预设值。
7.根据权利要求6所述的基于双摄像头的曝光调节方法,其特征在于:
所述捕获前景图像,并确定所述前景图像对应的第一曝光量包括:
通过第一摄像模块捕获图像;
从所述第一摄像模块捕获图像中识别出前景图像,感测所述前景图像上的曝光量得到所述第一曝光量;
所述捕获背景图像,并确定所述背景图像对应的第二曝光量包括:
通过第二摄像模块捕获图像;
从所述第二摄像模块捕获的图像中识别出背景图像,感测所述背景图像上的曝光量得到所述第二曝光量。
8.根据权利要求1所述的基于双摄像头的曝光调节方法,其特征在于:
所述分别控制调节所述第一摄像模块的第一拍摄参数和所述第二摄像模块的第二拍摄参数,使所述第一曝光量与所述第二曝光量位于预设范围内包括:
识别所述前景图像的各个像素并计算出所述前景像素的第一平均值;
识别所述背景图像的各个像素并计算出所述背景像素的第二平均值;
然后将所述前景像素的第一平均值与所述背景像素的第二平均值相比较,得到比较值,当所述比较值超出所述预设范围时,分别向所述第一调节模块和所述第二调节模块发出调节指令;
其中,所述第一拍摄参数包括:第一光圈、第一快门及第一感光度,所述第二拍摄参数包括:第二光圈、第二快门及第二感光度。
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