[发明专利]一种锡掺杂n型氧化镓制备方法

权利要求书

1.一种锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，步骤如下：

步骤1.在氧化镓材料上预沉积锡掺杂源或将锡掺杂源直接覆盖在氧化镓材料上，锡掺杂源的厚度为1nm～1mm；

步骤2.安放氧化镓材料，选择如下方法中的一种：

方法一，在常压条件下，将步骤1处理后的氧化镓材料置于石英舟或石英管内；

方法二，将步骤1处理后的氧化镓材料封闭在石英管内，石英管内的真空度小于1×10^-3Pa；

方法三，将步骤1处理后的氧化镓材料和锡掺杂源共同封闭在石英管内，石英管内的真空度小于1×10^-3Pa；

步骤3.对步骤2放置好的氧化镓材料进行热处理，热处理温度为100℃～1500℃；热处理时间为1h～24h；

当选择方法一放置氧化镓材料时，在高纯氮气或氩气气体保护下进行热处理；

步骤4.温度降到室温后，取出锡掺杂n型氧化镓；

步骤5.锡掺杂n型氧化镓的后续处理：用清洗液对锡掺杂n型氧化镓表面的残留物进行一次清洁，再用去离子水对残留物进行二次清洁；将氧化镓材料吹干，妥善保存。

2.根据权利要求1所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，所述的氧化镓材料是单晶、多晶和制备在衬底上的外延薄膜；所述的锡掺杂源是锡单质或锡的氧化物。

3.根据权利要求1或2所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，热处理温度为700℃～1200℃；热处理时间为2h～12h。

4.根据权利要求1或2所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，锡掺杂源的厚度为10nm～10μm。

5.根据权利要求3所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，锡掺杂源的厚度为10nm～10μm。

6.根据权利要求1、2或5所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，所述的清洗液是盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸、双氧水、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或两种以上混合。

7.根据权利要求3所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，所述的清洗液是盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸、双氧水、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或两种以上混合。

8.根据权利要求4所述的锡掺杂n型氧化镓制备方法，其特征在于，所述的清洗液是盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸、双氧水、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或两种以上混合。