[发明专利]一种具有太赫兹波段可控透射率的掺钼氧化锌薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201710028457.7 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN106884143A | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 沈杰;郑明扬;任锦华;靳琦 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司31200 | 代理人： | 陆飞,陆尤 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 赫兹 波段 可控 透射率 氧化锌 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有太赫兹波段可控透射率的掺钼氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤为：
（1）在基板温度为20~300℃条件下，以锌钼金属镶嵌靶为靶材，以石英玻璃为基板，通过反应直流磁控溅射法，用Ar离子轰击靶材进行溅射，溅射电流150~300mA，溅射电压100~400V，反应室内的气体为氧氩混合气体，溅射时压强为0.45~2.5Pa，其中O2反应气体的分压百分含量为4.0～20.0％，溅射时间40~100分钟，形成具有多晶结构的掺钼氧化锌薄膜；
（2）然后，在大气或氩气或氮气或真空条件下退火，退火时间为15~240min，退火温度为100~600℃，得到在太赫兹波段具有可控透射率的掺钼氧化锌透明导电薄膜。
2.如权利要求1所述的掺钼氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，真空退火时气压为10-2~10Pa，其他气氛均为1个大气压。
3.如权利要求1或2所述的掺钼氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，锌钼镶嵌靶中，Mo:Zn的原子比为0.5%~5%。
4.如权利要求3所述的掺钼氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，掺钼氧化锌薄膜厚度为100~250nm。
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