[发明专利]获得用于产生H2的混合物的方法和设备、相应的混合物

权利要求书

1.获得用于产生H₂的混合物的方法，所述混合物包含金属硼氢化物Me(BH₄)_n、金属氢氧化物Me(OH)_n和H₂O，其中Me是金属并且n是金属离子的价态，其中H₂O提供为超纯水UPW，所述UPW的电导率低于1μS/cm，并且所述方法包括将所述金属硼氢化物和所述金属氢氧化物溶于UPW以获得用于产生H₂的所述混合物，所述混合物包含为所述混合物的45％mol至55％mol的量的所述金属硼氢化物的硼氢BH₄根、为所述混合物的2％mol至5％mol的量的所述金属氢氧化物的氢氧OH根，和用于所述混合物的剩余部分的至少大量的UPW。

2.如前述权利要求所述的方法，其中所述方法包括如下步骤

-将一定量的所述金属氢氧化物溶于H₂O，以提供H₂O中溶解有金属氢氧化物的辅助混合物；以及

-将一定量的所述金属硼氢化物溶于所述H₂O中溶解有金属氢氧化物的辅助混合物，以提供用于产生H₂的所述混合物。

3.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中用于产生H₂的所述混合物包含3％mol至4％mol的量的所述金属氢氧化物的氢氧根。

4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中用于产生H₂的所述混合物包含48％mol至53％mol的量的所述金属硼氢化物的硼氢根。

5.用于实施前述权利要求中任一项所述的方法的套组，其中所述套组包含金属硼氢化物、金属氢氧化物和UPW中的至少一种。

6.用于产生H₂的混合物，其中所述混合物包含溶于H₂O的金属硼氢化物Me(BH₄)_n和金属氢氧化物Me(OH)_n，其中Me是金属并且n是金属离子的价态，其中H₂O提供为超纯水UPW，UPW的电导率低于1μS/cm，并且所述混合物包含为所述混合物的45％mol至55％mol、任选的48％mol至53％mol的量的所述金属硼氢化物的硼氢BH₄根，为所述混合物的2％mol至5％mol、任选的3％mol至4％mol的量的所述金属氢氧化物的氢氧OH根，和用于所述混合物的剩余部分的至少大量的UPW。

7.如前述权利要求所述的混合物，其中所述混合物是通过前述权利要求中任一项所述的方法获得的。

8.前述权利要求中任一项所述的方法、套组或混合物，其中所述UPW满足以下中的至少一种：具有低于0.5μS/cm、任选地低于0.1μS/cm、任选地低于0.06μS/cm的电导率，以及具有电子和半导体级水ASTM类型E-1分类或更好的分类。

9.如前述权利要求中任一项所述的方法、套组或混合物，其中所述金属Me为锂Li；钠Na；以及钾K中的至少一种。

10.如前述权利要求中任一项所述的方法、套组或混合物，其中所述金属Me为钠Na，并且用于产生H₂的所述混合物包含为所述混合物的58％wt至72％wt、任选的62％wt至69％wt的量的硼氢化钠NaBH₄和为所述混合物的3％wt至7％wt、任选的4％wt至6％wt的量的氢氧化钠NaOH。

11.用于实施前述权利要求中任一项所述的方法的装备。