[发明专利]具有改进的热机械特性、包括有机-无机层的物品

权利要求书

1.一种包括基材的物品，该基材具有至少一个涂覆有多层式干涉涂层的主表面，该干涉涂层包括至少一个折射率高于1.65的层和至少一个折射率低于或等于1.65的层，该干涉涂层的这些层中的至少一个是在真空下沉积并具有大于或等于30nm的物理厚度的具有有机-无机性质的层，所述干涉涂层具有高于或等于10的层数和/或大于1μm的物理厚度，和

所述有机-无机性质的层是通过沉积至少一种有机硅化合物获得的且不由无机前体形成，

其中所述物品进一步定义为包括以下述顺序堆叠的如下组分：

-所述基材，

-与下述组分直接接触的所述有机-无机层，

-与下述组分直接接触的包含氧化硅并且具有小于或等于15nm的厚度的层，

-含有至少一种金属氧化物的具有高于1.65的折射率的层。

2.如权利要求1所述的物品，其中该具有有机-无机性质的层包含碳原子、氧原子和金属或类金属原子。

3.如权利要求1或2所述的物品，其中该具有有机-无机性质的层在离子源的辅助下沉积。

4.如权利要求1所述的物品，其中该有机硅化合物包含至少一个具有以下式的二价基团：

其中R'¹至R'⁴独立地表示烷基、乙烯基、芳基或羟基或可水解基团，或者其中该有机硅化合物对应于以下式：

其中R'⁵、R'⁶、R'⁷和R'⁸独立地表示羟基或可水解基团。

5.如权利要求1所述的物品，其中该有机硅化合物选自八甲基环四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基五硅氧烷和六甲基二硅氧烷。

6.如权利要求1或2所述的物品，其中该具有有机-无机性质的层是折射率低于或等于1.65的 层A。

7.如权利要求1或2所述的物品，其中该干涉涂层具有大于1μm的物理厚度。

8.如权利要求1或2所述的物品，其中该干涉涂层具有大于或等于1.1μm的物理厚度。

9.如权利要求1或2所述的物品，其进一步定义为包括物理厚度大于或等于300nm的具有有机-无机性质的层。

10.如权利要求1或2所述的物品，其中该干涉涂层包括底层，该底层包括具有有机-无机性质的层。

11.如权利要求1或2所述的物品，其中该干涉涂层是选择性滤光器和/或减反射涂层。

12.如权利要求1或2所述的物品，其进一步定义为具有高于或等于60℃的临界温度。

13.如权利要求1或2所述的物品，其中该具有有机-无机性质的层在借助于离子枪实现的离子轰击下沉积。

14.如权利要求1或2所述的物品，其中该干涉涂层是在400-500nm的蓝色域中包括滤光区的选择性滤光器。

15.如权利要求1或2所述的物品，其中该具有有机-无机性质的层是折射率低于或等于1.55的层A。

16.如权利要求4所述的物品，其中R'⁵、R'⁶、R'⁷和R'⁸独立地表示羟基或OR的可水解基团，其中R为烷基。

17.如权利要求1或2所述的物品，其中所述有机-无机性质的层相对于层的重量，含有按重量计大于80％的有机硅化合物。

18.如权利要求1或2所述的物品，所述有机-无机性质的层具有低于或等于1.65的折射率，和

-相对于层的重量，含有按重量计大于80％的有机硅化合物。