[发明专利]物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201680030014.5 申请日: 2016-05-27
公开(公告)号: CN107615169B 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 青木保夫;吉田亮平 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B65G49/06;H01L21/677;H01L21/68
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;闫剑平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 物体 保持 装置 曝光 平板 显示器 制造 方法 器件
【说明书】:

本发明的物体保持装置具有:保持面部(60),其具有保持基板的保持面;管路部(50),其具有控制保持面与基板之间的气体的管路,且载置有保持面部(60);以及基部(60),其载置有管路部(50)。而且,在管路部(50)中,管路沿第一方向延伸,且沿与所述第一方向交叉的第二方向配置有多个。本发明的物体保持装置能够容易地进行气体管道路径的制作和基板载置面的平面度调整,具有基部(40)的结构简单,组装和维护容易的效果。

技术领域

本发明涉及物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法,更详细地,涉及包括用于保持物体的保持构件在内的物体保持装置、对由所述物体保持装置保持的物体进行曝光的曝光装置、使用了所述曝光装置的平板显示器或者器件的制造方法。

背景技术

以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子器件(微型器件)的光刻工序中,使用了用能量束将形成于光罩或者标线片(以下,统称为“光罩”)的图案转印至玻璃板或者晶片(以下,总称为“基板”)的曝光装置。

在这种曝光装置中,基板载台装置所具有的基板保持架对基板例如进行真空吸附,由此以不在该基板上形成褶皱或者凹凸等的方式沿着基板载置面进行平面矫正(例如,参照专利文献1)。

此处,近年来,作为曝光对象的基板倾向于变得更薄,存在因形成于基板保持架的基板载置面的凹凸、槽或者贯穿孔等导致基板的平面矫正变得困难的担忧。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2004-273702号公报

发明内容

根据本发明的第一实施方式,提供一种物体保持装置,具有:保持部,其保持物体的保持面;气体流路部,其具有控制所述保持面与所述物体之间的气体的流路,且所述保持部载置于其上;以及基部,所述气体流路部载置于其上,所述流路在所述气体流路部中,沿第一方向延伸,且沿与所述第一方向交叉的第二方向配置有多个。

根据本发明的第二实施方式,提供一种曝光装置,具有第一实施方式的物体保持装置,

用能量束在所述物体保持装置所保持的所述物体上形成规定的图案的图案形成装置。

根据本发明的第三实施方式,提供一种平板显示器的制造方法,包括如下的步骤:用第二实施方式的曝光装置对所述基板进行曝光,将曝光了的所述基板显影。

根据本发明的第四实施方式,提供一种器件制造方法,包括如下的步骤:用第二实施方式的曝光装置对所述物体进行曝光,将曝光了的所述物体显影。

附图说明

图1是概略地示出一实施方式的液晶曝光装置的构成的图。

图2是示出图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的基板保持架的立体图。

图3是图2的基板保持架的分解图。

图4是示出基板保持架的变形例的图。

图5的(a)以及图5的(b)是示出基板载台装置所具有的搬入搬出托架装置的图(分别是侧视图以及主视图)。

图6的(a)~图6的(c)是用于说明基板保持架上的基板的交换动作的图(其一~其三)。

图7的(a)以及图7的(b)是用于说明基板保持架上的基板的交换动作的图(其四以及其五)。

图8的(a)以及图8的(b)是示出基板载台装置所具有的保持架清扫装置的图(分别是侧视图以及主视图)。

图9的(a)以及图9的(b)是用于说明使用了保持架清扫装置的基板保持架的清扫动作(其一)的图(分别是侧视图以及主视图)。

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