[发明专利]雾度的评价方法

说明书

本发明提供一种雾度的评价方法，其是通过使用了散射光的粒子计数器装置对基板表面的雾度进行评价的方法，其特征在于，在根据已入射至所述基板表面的光的散射光强度来求出所述基板表面的雾度值时，使用标准样品进行雾度值的校准，作为所述标准样品，使用涂布标准粒子而成的样品。由此，使用雾度用的标准样品进行粒子计数器装置的雾度值的校准，能够提高雾度的测定精度。

技术领域

本发明涉及一种雾度的评价方法。

背景技术

在粒子计数器装置中，不仅能进行粒子测定，还能进行雾度的测定。此处，所谓粒子计数器装置，是指如下所述装置，即，通过在已入射的光照向晶片且在其上存在粒子的情况下产生强的散射光，由此能够调查粒子的个数、位置。

在硅晶片表面存在雾度(表面的凹凸)的情况下，通过对晶片照射光会产生弱的散射光，因此也能使用上述的粒子计数器装置进行雾度的测定。

雾度是重要的质量项目，利用粒子计数器装置以雾度值的方式对其进行管理。雾度值大说明表面的粗糙度大，雾度值低说明表面的粗糙度小。

粒子计数器装置通常为了提高测定精度，利用涂布标准粒子(用聚苯乙烯、SiO₂制作)而成的标准晶片(标准样品)进行粒子尺寸的校准。

由于对于每个装置而言，激光强度、光电倍增管(Photomultiplier)的灵敏度略有不同，因此，虽然原本对于入射光而言，由某一定尺寸的粒子散射的光强度应该相同，但难以使检测器灵敏度等完全一致，实际上，将某一定尺寸的标准粒子载置于晶片，将由该晶片产生的散射光强度(根据装置而不同)设为该装置固有的值，并作为相对于一定尺寸的粒子的散射光强度进行处理，由此填补装置间的差。

关于雾度值也同样地利用标准晶片(标准样品)进行校准，对雾度用的标准晶片的要求如下所述。

1)不存在粗糙度的面内分布，其是一定的，并且不管从哪个方位观察均一定(原子台阶等不行，因为从某一方向观察存在高低差，从另一方向观察无高低差)。

2)在测定途中不污染(若污染则雾度值改变)。

3)在保管中不污染、不起雾(若起雾则雾度值改变)。

专利文献1中公开了下述方案：基于不管从哪个方向进行观察粗糙度均一定的观点出发，通过在硅晶片表面制作圆柱状的凹凸，由此形成雾度用的标准晶片。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：专利第3919854号

发明内容

(一)要解决的技术问题

然而，如上所述，雾度用的标准样品所要求的质量非常困难，尤其是若从经时变化的观点出发，则必须连保管方法也考虑到。

因此，难以形成可经长时间的雾度用的标准样品，即使是专利文献1中公开的雾度用的标准样品，也在经时变化方面存在问题。

此外，在管理雾度的需求日益加强的现在，要求制作雾度用的标准样品并求出装置间的差，以及对经时变化进行管理。

本发明是鉴于上述技术问题而完成的，其目的在于，提供一种雾度的评价方法，其使用雾度用的标准样品进行粒子计数器装置的雾度值的校准(calibration)，能够提高雾度的测定精度。

(二)技术方案

为了实现上述目的，本发明提供一种雾度的评价方法，其是通过使用了散射光的粒子计数器装置对基板表面的雾度进行评价的方法，其特征在于，在根据已入射至所述基板表面的光的散射光强度来求出所述基板表面的雾度值时，使用标准样品进行雾度值的校准，作为所述标准样品，使用涂布标准粒子而成的样品。