[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

处理容器；

载波组生成部，其生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中所述频率属于以规定的中心频率为中心的规定的频带；和

使用所述载波组在所述处理容器内生成等离子体的等离子体生成部，

所述载波组生成部，以使所述载波组的反射波的功率成为极小的频率与所述载波组中所包含的多个载波中的任意载波的频率一致的方式生成所述载波组。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

各所述载波的频率以固定的间隔存在多个。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组，是使用通过将波形数据量化并进行逆傅里叶变换而得的I数据和Q数据，对彼此相位相差90°的载波进行调制而生成的。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

各所述载波的频率与时间的经过无关是固定的。

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波的振幅相同。

6.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

各所述载波的振幅与时间的经过无关是固定的。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波中的所述规定的频带中频率相邻的至少2个载波的相位不同。

8.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波中的所述规定的频带中频率相邻的至少2个载波的相位相差90°。

9.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，还包括：

检测所述载波组的反射波的频谱的检测部；和

控制部，其控制所述载波组生成部，决定所述规定的频带的宽度以使得作为与所述频谱的极小值对应的所述反射波的频率的极小反射频率存在于所述规定的频带内。

10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组生成部，在利用所述等离子体对被处理体进行等离子体处理之前，生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的另一载波组，其中所述频率属于以规定的中心频率为中心的所述规定的频带，

所述等离子体生成部使用所述另一载波组在所述处理容器内生成等离子体，

所述另一载波组中所包含的各所述载波的振幅，随时间的经过而变动，该振幅的极大值比所述载波组中所包含的各所述载波的振幅大。

11.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组生成部，在利用所述等离子体对被处理体进行等离子体处理之前，生成所述载波组中所包含的所述多个载波中的至少一个载波，

所述等离子体生成部使用所述至少一个载波，在所述处理容器内生成等离子体，

所述至少一个载波的振幅，比进行所述等离子体处理时的所述至少一个载波的振幅大。

12.一种等离子体处理方法，其特征在于：

生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中所述频率属于以规定的中心频率为中心的规定的频带，所述载波组以使所述载波组的反射波的功率成为极小的频率与所述载波组中所包含的多个载波中的任意载波的频率一致的方式生成，

使用所述载波组在处理容器内生成等离子体。