[发明专利]用于涂覆表面的方法和设备

说明书

本发明涉及一种用于借助含有涂覆颗粒的涂覆射流(S)涂覆表面(2)的方法，其中，所述涂覆射流(S)由喷涂装置(1)以喷涂角度(α)定向到所述表面(2)上，其特征在于，在涂覆过程期间或在两个涂覆过程之间确定喷涂角度(α)，并且在所确定的喷涂角度(α)与预定的额定喷涂角度有偏差时调节喷涂角度(α)并由此将该喷涂角度重新调整到所述额定喷涂角度。

技术领域

本发明涉及一种用于借助含有涂覆颗粒的涂覆射流涂覆表面的方法，其中，所述涂覆射流由喷涂装置以喷涂角度定向到所述表面上。本发明还涉及一种用于借助含有涂覆颗粒的涂覆射流涂覆表面的设备，其中，所述涂覆射流由喷涂装置以喷涂角度定向到所述表面上，并且本发明还涉及一种借助根据本发明的方法涂覆的表面。

背景技术

同类型方法用于涂覆表面，在此含有涂覆颗粒的涂覆射流由喷涂装置以预定的喷涂角度定向到待涂覆表面上。

在涂覆构件、尤其是热涂覆时，始终力求均匀的且在其质量方面均质涂覆的表面。尤其是在涂覆例如设置在内燃机中的活塞-缸装置的缸内壁时是这种情况。在这种涂覆过程中、尤其是在热涂覆时，一个关键的质量标准是涂覆射流在待涂覆表面上的入射角度以及在可能情况下的涂覆射流的涂覆颗粒速度。基于磨损、装配误差、参数混淆或不当操作可导致未正确实现涂覆射流在待涂覆表面上的希望入射角度，尽管所有过程参数和喷涂参数都已正确设定。然而，一旦涂覆射流在待涂覆表面上的入射角度位于预定义极限之外，则表面涂覆的质量将改变，因为入射的涂覆颗粒以不适合的角度或以不适合的速度入射该表面。即使已正确设定过程参数和喷涂参数，但这种错误仍可导致待涂覆构件在质量控制中被评估为“废件”。

由DE 19910892 A1已知借助热涂覆过程在基底表面上制造涂层，在此借助数字相机检测、控制和/或监测热喷涂过程的至少一个影响喷涂层质量的特征。

DE 19820195 A1示出并描述用于热喷涂的方法和设备，其中，在基本上水平的等离子体射流中从上方喷入待喷涂粉末。在此借助相机监测从上方引入等离子体射流中的粉末是否在等离子体射流中心熔化或是否(不希望地)未进入等离子体射流中或被吹过等离子体射流。由相机检测的图像用于能够调整使粉末最佳地吹入等离子体射流中。等离子体射流在此不偏转。但概括地提到可借助数字相机检测、控制和/或监测热喷涂过程的至少一个影响喷涂层质量的特征，此外，作为这种影响喷涂层质量的特征，也附带提到喷涂角度作为喷涂射流和基底表面之间的角度。

US 2006/0198944A1也示出和描述了一种用于等离子体喷涂的设备，在其中从侧面将粉末颗粒喷入水平定向到沉积表面上的等离子体射流中。通过将粉末颗粒倾斜喷入等离子体射流中，在等离子体射流中熔化的粉末颗粒以偏离等离子体射流水平方向的角度喷涂到表面上。

US 5,047,612A也示出并描述了一种等离子喷涂装置，在其中待沉积在表面上的粉末颗粒以90°角被喷射到水平定向到沉积表面上的等离子体射流中。相机对准沉积表面并检测沉积在沉积表面上的粉末。

US 2004/0245354A1示出并描述了一种用于监测喷涂过程的方法，其中借助颗粒分析仪确定含有颗粒的喷涂射流的颗粒分布。

发明内容

本发明的任务在于提供一种同类型的用于调节涂覆射流的方法，借助该方法可改善涂覆质量并且尤其是在涂覆过程中获得被均匀涂覆的表面。