[发明专利]用于对苛刻流体加压的方法和系统有效
| 申请号: | 201680021707.8 | 申请日: | 2016-02-23 |
| 公开(公告)号: | CN107454926B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
| 发明(设计)人: | S.韦尔马;T.S.拉马克里什南;J.帕邦;J.D.罗瓦特 | 申请(专利权)人: | 施蓝姆伯格技术公司 |
| 主分类号: | F04B9/105 | 分类号: | F04B9/105;F04B23/04;F04B53/10;F04B53/16 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王增强 |
| 地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 苛刻 流体 加压 方法 系统 | ||
1.一种将油田流体从井表面泵送到井筒的方法,其包括:
提供苛刻流体的低压源;
操作至少一个高压泵来泵送清洁流体;以及
使用活塞组件,所述活塞组件在移动方向上与清洁流体接触并且使用来自所述至少一个高压泵的压力推动所述清洁流体,以便向所述苛刻流体提供高压,从而在高压下将所述苛刻流体推向所述井筒,
其中使用活塞组件包括:利用具有至少两个管件的系统,每个管件包含相应的活塞组件,所述活塞组件工作以连续地将所述苛刻流体泵送到所述井筒中,以使得在第一半循环中,所述相应的活塞组件中的第一个正引起苛刻流体在高压下从所述两个管件中的第一个喷射出,而所述管件中的第二个正在低压下由苛刻流体填充,并且在第二半循环中,所述相应的活塞组件中的第二个正引起苛刻流体在高压下从所述两个管件中的第二个喷射出,而所述管件中的所述第一个正在低压下由苛刻流体填充。
2.如权利要求1所述的方法,其中预定量的清洁流体用于缓冲所述苛刻流体对所述活塞组件的影响。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述预定量是所述活塞组件引起所述清洁流体和所述苛刻流体在高压下移动时所述苛刻流体在所述清洁流体中的散布长度的函数。
4.如权利要求3所述的方法,其中所述散布长度的函数是所述散布长度的三倍。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述相应的活塞组件在所述第一半循环和所述第二半循环两者中都由清洁流体包围。
6.如权利要求5所述的方法,其中在所述第一半循环和所述第二半循环两者中,预定量的清洁流体用于缓冲所述苛刻流体对所述活塞组件中的每一个的影响。
7.如权利要求1所述的方法,其中在所述第一半循环中,当所述相应的活塞组件中的所述第一个在高压下从所述两个管件中的所述第一个的第一端移动到第二端时,增加量的清洁流体用于对所述相应的活塞组件中的所述第一个提供缓冲。
8.如权利要求7所述的方法,其中在所述第一半循环中,所述苛刻流体在与所述活塞组件的移动方向相反的一侧上与所述相应的活塞组件中的第二个进行低压接触。
9.如权利要求1所述的方法,其中所述清洁流体是水。
10.如权利要求1所述的方法,其中所述活塞组件包括止回阀。
11.如权利要求1所述的方法,其还包括:
使用止动元件阻碍所述活塞组件的移动。
12.如权利要求1所述的方法,其中所述苛刻流体是地层压裂液。
13.一种用于将油田流体从井表面泵送到井筒的系统,其包括:
苛刻流体的低压供应源;
与清洁流体连通的高压泵;以及
各自包括相应的活塞组件的至少两个管件,其中每个活塞组件在所述活塞组件的移动方向上与所述清洁流体接触并且使用来自所述高压泵的压力推动所述清洁流体,以便向所述苛刻流体提供高压并推动所述苛刻流体,从而在压力下将所述苛刻流体推向所述井筒,
其中所述活塞组件工作以连续地将所述苛刻流体泵送到所述井筒中,以使得在第一半循环中,所述相应的活塞组件中的第一个正引起苛刻流体在高压下从所述两个管件中的第一个喷射出,而所述管件中的第二个正在低压下由苛刻流体填充,并且在第二半循环中,所述相应的活塞组件中的第二个正引起苛刻流体在高压下从所述两个管件中的第二个喷射出,而所述管件中的所述第一个正在低压下由苛刻流体填充。
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