[发明专利]用于形成地板覆盖物的地板镶板

权利要求书

1.用于形成地板覆盖物的地板镶板，所述地板镶板(1)包括组成基板(2)；所述地板镶板(1)包括至少两个相对边缘(3、4)上的耦接部分(5、6)，所述耦接部分(5、6)允许两个所述地板镶板(1)能通过一个地板镶板(1)相对于另一地板镶板(1)的向下运动(M)彼此耦接；其中，在两个所述地板镶板(1)的耦接状态中，所述耦接部分(5、6)形成第一锁定系统，所述第一锁定系统在位于所述地板镶板(1)的平面中且垂直于所述两个相对边缘(3、4)的第一方向(H)上实现锁定，并且所述耦接部分形成第二锁定系统，所述第二锁定系统在横向于所述地板镶板(1)的平面的第二方向(V)上实现锁定；所述第一锁定系统至少由位于所述两个相对边缘(3、4)中的一个相对边缘(4)上的向上指向的下钩形部分(7)和位于所述两个相对边缘中的另一相对边缘(3)上的向下指向的上钩形部分(8)形成，所述下钩形部分(7)和所述上钩形部分(8)能通过所述向下运动(M)彼此前后接合；所述下钩形部分(7)由具有向上指向的锁定元件(10)的唇缘(9)构成，而所述上钩形部分(8)由具有向下指向的锁定元件(12)的唇缘(11)构成；所述第二锁定系统包括锁定部分(13、14)，所述锁定部分分别位于所述下钩形部分(7)的近端附近和所述上钩形部分(8)的远端附近；所述组成基板(2)至少由两个基板层(15、16)构成，即，基于合成材料的第一基板层(15)和直接位于所述第一基板层上的第二基板层(16)，所述第二基板层(16)的厚度(D1)为至少0.5mm；其特征在于，所述第一基板层(15)构造有所述地板镶板的多于一半的厚度；所述第一基板层(15)是发泡的；所述第一基板层(15)包含聚氯乙烯并且为刚性类型的，并且因此不包含增塑剂或者包含低于20phr的量的增塑剂；所述第二基板层(16)包含聚氯乙烯和大于15phr的量的增塑剂；所述锁定部分(13、14)设置有锁定表面(17、18)，在所述锁定表面在两个所述地板镶板(1)的耦接状态中配合的情况下，所述锁定表面限定水平的或与水平面偏离不超过50度的切线(R)；并且无论所述锁定表面是否位于所述第二基板层(16)中，所述锁定表面(17、18)定位为更靠近所述第一基板层(15)的上侧，而不是更靠近所述第一基板层(15)的下侧。

2.用于形成地板覆盖物的地板镶板，所述地板镶板(1)包括组成基板(2)；所述地板镶板(1)包括至少两个相对边缘(3、4)上的耦接部分(5、6)，所述耦接部分(5、6)允许两个所述地板镶板(1)能通过一个地板镶板(1)相对于另一地板镶板(1)的向下运动(M)彼此耦接；其中，在两个所述地板镶板(1)的耦接状态中，所述耦接部分(5、6)形成第一锁定系统，所述第一锁定系统在位于所述地板镶板(1)的平面中且垂直于所述两个相对边缘(3、4)的第一方向(H)上实现锁定，并且所述耦接部分形成第二锁定系统，所述第二锁定系统在横向于所述地板镶板(1)的平面的第二方向(V)上实现锁定；所述第一锁定系统至少由位于所述两个相对边缘(3、4)中的一个相对边缘(4)上的向上指向的下钩形部分(7)和位于所述两个相对边缘(3、4)中的另一相对边缘(3)上的向下指向的上钩形部分(8)形成，所述下钩形部分(7)和所述上钩形部分(8)能通过所述向下运动(M)彼此前后接合；所述下钩形部分(7)由具有向上指向的锁定元件(10)的唇缘(9)构成，而所述上钩形部分(8)由具有向下指向的锁定元件(12)的唇缘(11)构成；所述第二锁定系统包括锁定部分(13、14)，所述锁定部分分别位于所述下钩形部分(7)的近端附近和所述上钩形部分(8)的远端附近；其中，所述组成基板(2)至少由两个基板层(15、16)构成，即，基于合成材料的第一基板层(15)和直接位于所述第一基板层上的第二基板层(16)，所述第二基板层(16)的厚度(D1)为至少0.5mm；其特征在于，所述第一基板层(15)构造有所述地板镶板的多于一半的厚度；所述第一基板层(15)是发泡的；所述第一基板层(15)包含聚氯乙烯并且为刚性类型的，并且因此不包含增塑剂或者包含低于20phr的量的增塑剂；所述第二基板层(16)包含聚氯乙烯和大于15phr的量的增塑剂；所述锁定部分(13、14)设置有锁定表面(17、18)，在所述锁定表面在两个所述地板镶板(1)的耦接状态中配合的情况下，所述锁定表面限定水平的或与水平面偏离不超过50度的切线(R)；所述锁定表面(17、18)至少部分地位于所述第一基板层(15)中；所述向上指向的锁定元件(10)和所述向下指向的锁定元件(12)均设置有锁定表面(19、20)，所述锁定表面(19、20)在两个所述地板镶板(1)的耦接状态中配合；并且锁定距离(A)小于1cm，所述锁定距离(A)由在耦接状态中的两个所述地板镶板(1)之间形成的竖直封闭面(V1)与穿过所述向上指向的锁定元件(10)的锁定表面和所述向下指向的锁定元件(12)的锁定表面在耦接状态中彼此接触的区域中心的竖直面(V2)之间的水平距离形成。