[实用新型]一种适用于微体积液体成分分析的微区原位滴液板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种实现微小体积液体在激光剥蚀等离子质谱或激光剥蚀多接受等离子质谱等激光剥蚀进样仪器上进行微区原位主、微量元素和同位素成分分析且非常实用的辅助装置。

背景技术

近年来，以激光剥蚀作为进样方式的激光剥蚀等离子质谱、激光剥蚀多接受等离子质谱或激光剥蚀光谱等设备因微区原位、高精度、低检测限、高性价比等特点，广泛应用于物理材料、地质矿产、环境能源等领域，大大推进了基础科学研究和应用研究。由于该类设备的样品仓及样品台多设计为固体样品的微区原位成分分析，因而很难应用于液体的成分分析，从而限制了该类设备的应用。

实用新型内容

针对上述背景技术存在的问题，本实用新型提供了一种适用于在激光剥蚀作为进样方式的分析设备上开展微体积液体成分微区原位分析的滴液板辅助装置。

为此，本实用新型采用以下技术方案：一种适用于微体积液体成分分析的微区原位滴液板，其特征是，包括由特氟龙材质制作成型的滴液板，在滴液板的顶面形成多个凸出的溢流台，溢流台的顶面高度平齐，溢流台之间相互间隔一定距离，溢流台上形成其坑径均一或不均一内凹的圆形滴液坑，圆形滴液坑的坑底形成平滑的曲面，所述的滴液板所有周边外缘形成可用于固定滴液板的卡槽。

作为对上述技术方案的补充和完善，本实用新型还包括以下技术特征。

所述的滴液板呈长方形，设置在长方形滴液板上的溢流台和圆形滴液坑之间的大小相等，溢流台呈多排平行排列设置。

所述的滴液板呈圆形，设置在圆形滴液板上的溢流台和圆形滴液坑之间的大小不均一。

圆形滴液坑的坑底形成平滑的曲面的曲度为60度。

使用本实用新型可以达到以下有益效果：本实用新型结构简单，成本低廉，易于使用，可大大拓展激光剥蚀等离子质谱或激光剥蚀多接受等离子质谱等设备的应用范围和应用空间，具备较强的实用价值和经济价值。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的长方形滴液板结构示意图。

图3为本实用新型的圆形滴液板结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细描述。

如图1-图3所示，用于在激光剥蚀作为进样方式的分析设备上开展微体积液体成分微区原位分析的滴液板辅助装置，其结构和尺寸可依照激光剥蚀进样设备的通用样品靶，通用为特氟龙材质的长方形或圆形厚板构成，厚板上分布数个或数十个大小均一或不均一的滴液坑2，坑底平滑，弧度约60度，每个滴液坑周边为与坑的边缘持平的溢流台3，每个滴液坑2和溢流台3构成一个单元，每个单元之间有凹槽，为液体隔离槽，厚板周边为卡槽，卡槽深度与溢流台3的高度相同，约为0.5毫米。

本实用新型使用前，将滴液板1先后置于强酸及无水酒精中清洗，再用去离子水洗净，然后用脱脂棉棉签蘸无水酒精逐一擦拭每一个滴液坑2，待酒精挥发后，将待测液体逐一滴入滴液坑2，至液面稍微高于溢流台3。所有滴液坑2注满待测液体后，使用一整块通用分析薄膜覆盖这些滴液坑2，由于滴液坑2中的液体液面高于溢流台3，多余的液体会溢出滴液坑2，一部分平铺在溢流台3上，产生的表面张力会牢牢吸附分析薄膜，从而造成每一个滴液坑2成为一个密封的单元；另一部分溢出的液体从溢流台3上流下来，进入隔离槽，从而避免了每个滴液坑2之间液体样品的混染。分析薄膜吸附牢后，将薄膜封盖好的滴液板置于激光剥蚀的样品仓中，在卡槽的位置上固定好滴液板，待测。

本实用新型提供的用于在激光剥蚀作为进样方式的分析设备上开展微体积液体成分微区原位分析的滴液板辅助装置，其结构和尺寸可依照激光剥蚀进样设备的通用样品靶，依照不同尺寸可设计多个或数十个大小均一或不均一的滴液坑，因而可以同时盛装数个或数十个液体样品，进行批量分析，免除频繁更换样品的麻烦；每个滴液坑尺寸小，所需液体量少，最少只需100微升液体，可避免因液体高倍稀释造成成分无法准确检测的顾虑；每个滴液坑具有60度的平缓弧度，坑底平滑，减少了液体的表面张力，利于分析前后滴液板及滴液坑的擦拭、清洗；每个滴液坑周边存在平整的溢流台，便于滴液坑盛装液体后使用薄膜封盖，避免在分析测试过程中因挥发而造成成分混染；每个滴液坑单元之间存在隔离槽，利于容纳滴液坑溢出的液体，也保证每个滴液坑内的液体不会与其他液体混染；整个滴液板设计为特氟龙材质，耐强酸强碱，因而可适用于不同的液体成分的分析；整个滴液板结构简单，成本低廉，易于使用，可大大拓展激光剥蚀等离子质谱或激光剥蚀多接受等离子质谱等设备的应用范围和应用空间，具备较强的实用价值和经济价值。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。